[发明专利]转印薄膜、电极保护膜、层叠体、静电电容型输入装置及触摸面板的制造方法在审
申请号: | 201880079579.1 | 申请日: | 2018-10-19 |
公开(公告)号: | CN111480115A | 公开(公告)日: | 2020-07-31 |
发明(设计)人: | 霜山达也;袴田旺弘 | 申请(专利权)人: | 富士胶片株式会社 |
主分类号: | G03F7/038 | 分类号: | G03F7/038;H05K3/28;B32B27/16;B32B27/26;C08F8/14;C08F290/12;G03F7/004;G03F7/027;G06F3/041 |
代理公司: | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人: | 蒋亭 |
地址: | 日本国*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 薄膜 电极 保护膜 层叠 静电 电容 输入 装置 触摸 面板 制造 方法 | ||
1.一种转印薄膜,其具备临时支承体及感光性层,
所述感光性层含有:
包含由下述式A1表示的构成单元、源自具有脂环式结构的单体的构成单元及具有自由基聚合性基团的构成单元的聚合物A;
自由基聚合性化合物;及
光聚合引发剂,
所述由式A1表示的构成单元的含量相对于聚合物A的总质量为10质量%以上,
所述源自具有脂环式结构的单体的构成单元的含量相对于聚合物A的总质量为15质量%以上,
所述具有脂环式结构的单体的均聚物的玻璃化转变温度为120℃以上;
式A1中,Ar表示苯基或萘基,RA1表示氢原子或烷基。
2.根据权利要求1所述的转印薄膜,其中,
所述聚合物A还包含具有酸基的构成单元。
3.根据权利要求1或2所述的转印薄膜,其中,
所述感光性层还包含热交联性化合物。
4.根据权利要求3所述的转印薄膜,其中,
所述热交联性化合物中的热交联性基团为封端异氰酸酯基。
5.根据权利要求3或4所述的转印薄膜,其中,
所述热交联性化合物具有自由基聚合性基团。
6.根据权利要求1至5中任一项所述的转印薄膜,其用于形成触摸面板用保护膜。
7.一种电极保护膜,其从权利要求1至6中任一项所述的转印薄膜去除所述临时支承体而得。
8.一种层叠体,其在包含静电电容型输入装置的电极的基板上,具有从权利要求1至6中任一项所述的转印薄膜去除临时支承体之后的感光性层。
9.一种静电电容型输入装置,其具有权利要求7所述的电极保护膜或权利要求8所述的层叠体。
10.一种触摸面板的制造方法,其包括如下工序:
准备具有在基板上配置有触摸面板用电极及触摸面板用布线中的至少一方的结构的触摸面板用基板;
在所述触摸面板用基板的配置有所述触摸面板用电极及触摸面板用布线中的至少一方的一侧的面上,使用权利要求1至6中任一项所述的转印薄膜来形成感光性层;
对形成在所述触摸面板用基板上的所述感光性层进行图案曝光;及
通过对经图案曝光的所述感光性层进行显影而得到触摸面板用保护膜,所述触摸面板用保护膜对所述触摸面板用电极及触摸面板用布线中的至少一方的至少一部分进行保护。
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