[发明专利]图案化光学延迟器及其制作方法在审

专利信息
申请号: 201880069843.3 申请日: 2018-10-24
公开(公告)号: CN111279225A 公开(公告)日: 2020-06-12
发明(设计)人: 乔·A·埃特;斯蒂芬·P·梅基;迈克尔·L·斯坦纳;詹姆斯·A·菲普斯 申请(专利权)人: 3M创新有限公司
主分类号: G02B1/111 分类号: G02B1/111;G02B5/30
代理公司: 北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112 代理人: 顾红霞;张芸
地址: 美国明*** 国省代码: 暂无信息
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 图案 光学 延迟 及其 制作方法
【说明书】:

发明提供了一种图案化光学延迟器,图案化光学延迟器包括具有相应第一主表面和第二主表面的非重叠的第一区域(21)和第二区域(27),相应第一主表面和第二主表面具有不同的RMS表面粗糙度。对于在约400nm至约1000nm波长范围上的基本上垂直入射的光,图案化光学延迟器在相应的第一区域和第二区域中具有不同的延迟。

背景技术

光学系统可利用反射偏振器、部分反射器和相位延迟器。此类光学系统可用于头戴式显示器。

发明内容

在一个方面,本公开涉及一种图案化光学延迟器,该图案化光学延迟器包括具有相应第一主表面和第二主表面的非重叠的第一区域和第二区域,该相应第一主表面和第二主表面具有不同的RMS表面粗糙度。对于在约400nm至约1000nm波长(λ)范围上的基本上垂直入射的光,该图案化光学延迟器在相应的第一区域和第二区域中具有不同的延迟。

在另一方面,本公开涉及一种光学元件,该光学元件包括具有图案化光学延迟器的光学部件。该图案化光学延迟器包括具有相应第一主表面和第二主表面的非重叠的第一区域和第二区域,该相应第一主表面和第二主表面具有不同的RMS表面粗糙度。对于在约400nm至约1000nm波长(λ)范围上的基本上垂直入射的光,该图案化光学延迟器在相应的第一区域和第二区域中具有不同的延迟。

在另一方面,本公开涉及一种用于制作光学元件的方法。在对于在约400nm至约1000nm的预定波长λ上的基本上垂直入射的光具有基本上均匀的延迟δ并且包括表面的聚合物光学延迟器层中,该方法包括蚀刻所述表面的至少一个第一区域,使得该聚合物光学延迟器层在所述表面的至少一个第一区域中具有与δ的非零延迟差异θ;以及使该聚合物光学延迟器层适形于光学部件的表面。

在另一方面,本公开涉及一种用于制作光学元件的方法。该方法包括施加第一掩模以覆盖聚合物光学延迟器层的第一区域,对于在约400nm至约1000nm范围内的预定波长λ上的基本上垂直入射的光,该聚合物光学延迟器层具有基本上均匀的延迟δ;反应性离子蚀刻该聚合物光学延迟器层的表面,使得该聚合物光学延迟器层的未被第一掩模覆盖的第二区域具有不同于第一区域的光学厚度的光学厚度以及小于第一区域的延迟δ的延迟差异θ;以及使该聚合物光学延迟器层适形于光学部件的表面。

在另一方面,本公开涉及一种用于制作光学元件的方法。该方法包括提供聚合物膜,该聚合物膜具有光学表面,该光学表面被配置为接收在约400nm至约1000nm范围内的预定波长λ的光,该光学表面由以下限定:纵轴和横轴、第一纵向区段以及第二纵向区段,该纵轴和横轴限定在顺时针方向上按顺序编号的四个笛卡尔象限,该第一纵向区段基本上居中于该纵轴上并且该第二纵向区段基本上居中于该横轴上,该第一纵向区段和该第二纵向区段各自在该光学表面的相对边缘上延伸,其中对于基本上垂直入射的光,该第一纵向区段和该第二纵向区段各自具有相同的基本上均匀的延迟δ;以及反应性离子蚀刻该聚合物膜的表面以形成四个离散的延迟器区段,每个延迟器区段设置在该光学表面的相应笛卡尔象限上,其中每个离散的延迟器区段具有不同于第一纵向区段和第二纵向区段的光学厚度的光学厚度以及大于零的与δ的延迟差异θ。

在另一方面,本公开涉及一种用于制作光学元件的方法。该方法包括提供聚合物膜,该聚合物膜具有光学表面,所述光学表面被配置为接收在约400nm至约1000nm范围内的预定波长λ的光,所述光学表面包括非重叠的中心区域以及第一边缘区域和第二边缘区域,该第一边缘区域和该第二边缘区域设置在该中心区域的相应第一边缘和第二边缘处或附近;反应性离子蚀刻该表面,使得对于在该波长范围内的至少一个波长λ0:对于基本上垂直入射的光,中心区域具有基本上等于δ的平均延迟,第一边缘区域具有基本上等于δ+ξ的平均延迟,并且第二边缘区域具有基本上等于δ–ξ的平均延迟,其中对于整数n,λ0(n+1/8)≤δ≤(n+1/2)且δ/50≤ξ≤δ/2。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于3M创新有限公司,未经3M创新有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201880069843.3/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top