[发明专利]图案化光学延迟器及其制作方法

权利要求书

1.一种图案化光学延迟器，所述图案化光学延迟器包括非重叠的第一区域和第二区域，所述第一区域和所述第二区域包括具有不同的RMS表面粗糙度的相应第一主表面和第二主表面，其中对于在约400nm至约1000nm波长(λ)范围上的基本上垂直入射的光，所述图案化光学延迟器在相应的所述第一区域和所述第二区域中具有不同的延迟。

2.根据权利要求1所述的图案化光学延迟器，所述图案化光学延迟器具有在约0.2微米至约2微米范围内的厚度，所述第一区域具有比延迟器层的所述厚度薄约50nm至约500nm的厚度，并且所述第二区域具有比所述第一区域的所述厚度薄约20nm至约500nm的厚度。

3.根据权利要求1所述的图案化光学延迟器，其中对于在约400nm至约1000nm波长(λ)范围内的预定波长λ₀的垂直入射的光，所述第一区域与所述第二区域之间的光学延迟的差异小于约0.5λ₀。

4.根据权利要求1所述的图案化光学延迟器，其中所述图案化光学延迟器包括单层。

5.一种光学元件，所述光学元件包括具有图案化光学延迟器的光学部件，所述图案化光学延迟器包括非重叠的第一区域和第二区域，所述第一区域和所述第二区域包括具有不同的RMS表面粗糙度的相应第一主表面和第二主表面，其中对于在约400nm至约1000nm波长(λ)范围上的基本上垂直入射的光，所述图案化光学延迟器在相应的所述第一区域和所述第二区域中具有不同的延迟。

6.一种用于制作光学元件的方法，所述方法包括：

在对于约400nm至约1000nm的预定波长λ上的基本上垂直入射的光具有基本上均匀的延迟δ并且包括表面的聚合物光学延迟器层中，蚀刻所述表面的至少一个第一区域，使得所述聚合物光学延迟器层在所述表面的所述至少一个第一区域中包括与δ的非零延迟差异θ；以及

使所述聚合物光学延迟器层适形于光学部件的表面。

7.一种用于制作光学元件的方法，所述方法包括：

施加第一掩模以覆盖聚合物光学延迟器层的第一区域，对于在约400nm至约1000nm范围内的预定波长λ上的基本上垂直入射的光，所述聚合物光学延迟器层具有基本上均匀的延迟δ；

反应性离子蚀刻所述聚合物光学延迟器层的所述表面，使得所述聚合物光学延迟器层的未被所述第一掩模覆盖的第二区域具有不同于所述第一区域的光学厚度的光学厚度以及小于所述第一区域的所述延迟δ的延迟差异θ；以及

使所述聚合物光学延迟器层适形于光学部件的表面。

8.一种用于制作光学元件的方法，包括：

提供聚合物膜，所述聚合物膜包括光学表面，所述光学表面被配置为接收在约400nm至约1000nm范围内的预定波长λ的光，所述光学表面由以下限定：

纵轴和横轴、第一纵向区段以及第二纵向区段，所述纵轴和所述横轴限定在顺时针方向上按顺序编号的四个笛卡尔象限，所述第一纵向区段基本上居中于所述纵轴上，所述第二纵向区段基本上居中于所述横轴上，所述第一纵向区段和所述第二纵向区段各自在所述光学表面的相对边缘上延伸，其中对于基本上垂直入射的光，所述第一纵向区段和所述第二纵向区段各自具有相同的基本上均匀的延迟δ；并且

反应性离子蚀刻所述聚合物膜的所述表面以形成四个离散的延迟器区段，每个延迟器区段设置在所述光学表面的相应笛卡尔象限上，其中每个离散的延迟器区段具有不同于所述第一纵向区段和所述第二纵向区段的光学厚度的光学厚度以及大于零的与δ的延迟差异θ。