[发明专利]干涉测量台定位装置

说明书

一种用于电子束检查装置的台装置，包括：载物台(3)，其包括支撑表面，该载物台被配置为将衬底(190)支撑在该支撑表面上；定位设备(180)，其被配置为定位载物台；位置测量系统(5)，其包括位置传感器(8‑10)，该位置传感器被配置为测量载物台的平行于第一轴线的高度位置，该第一轴线基本垂直于支撑表面，该位置传感器包括具有干涉仪传感器(9、10、12)的干涉仪测量系统，其中干涉仪传感器的测量束(11、15)被配置为沿测量方向照射载物台的反射表面，该测量方向具有平行于第一轴线的第一分量和平行于第二轴线的第二分量，该第二轴线基本上垂直于第一轴线。

相关申请的交叉引用

本申请要求于2017年10月04日提交的EP申请17194665.0的优先权，其全部内容通过引用并入本文。

技术领域

本发明涉及一种用于电子束检查装置的台定位设备，该电子束检查装置被配置为检查诸如半导体设备之类的样本。

背景技术

在半导体工艺中，势必会生成缺陷。这些缺陷可能影响设备性能，甚至可能导致故障。因此，设备产率可能受到影响，从而导致成本上升。为了控制半导体工艺的产率，缺陷监测很重要。用于缺陷监测的一种工具是SEM(扫描电子显微镜)，其使用一个或多个电子束扫描样本的目标部分。

需要一个或多个电子束精确定位在目标部分上，以可靠监测缺陷。可能需要进一步提高定位要求，用于监测甚至更小的缺陷。同时，期望高吞吐量，这通常需要提高样本移动速度以及其加速度和减速度。此外，可能需要减少在样本停止移动之后可以允许检查装置进行设置的设置时间。总而言之，以上可能导致提高定位样本的准确性和动态性的要求。

在电子束检查工具的已知实施例中，光学传感器用于测量支撑在衬底的目标区域处或附近的载物台上的衬底的垂直高度位置。该光学传感器能够在该位置处高精度地测量衬底的高度位置。然而，光学传感器的测量速率有限，约为130Hz。这意味着光学传感器相对准确，但测量速率较低。

随着对电子束检查工具性能的需求的增加，定位设备的带宽受到光学传感器的这种性能的限制。

发明内容

本发明的一个目的是提供一种电子束检查工具，其允许相对于电子束源相对快速且足够准确地定位支撑在载物台上的衬底。特别地，本发明的一个目的是提供一种位置测量系统，其允许相对快速且足够准确地确定支撑在载物台上的衬底的高度位置。

根据本发明的一方面，提供了一种台装置，包括：

载物台，其包括支撑表面，该载物台被配置为将衬底支撑在该支撑表面上；

定位设备，其被配置为定位载物台；

位置测量系统，其包括位置传感器，该位置传感器被配置为测量载物台的平行于第一轴线的高度位置，该第一轴线基本上垂直于支撑表面，该位置传感器包括具有干涉仪传感器的干涉仪测量系统，

其中干涉仪传感器的测量束被配置为沿测量方向照射载物台的反射表面，该测量方向具有平行于第一轴线的第一分量和平行于第二轴线的第二分量，第二轴线基本垂直于第一轴线。

本发明的其他方面可以通过粒子束装置、电子束装置、电子束检查装置、光刻装置、计量装置或真空装置来体现。

附图说明

通过以下具体实施方式结合附图，将会容易地理解本发明，其中相同的附图标记表示相同的结构元件，其中

图1A和图1B是根据本发明的一个实施例的电子束检查工具的示意图。

图2和图3是可以应用于本发明的一个实施例的电子光学系统的示意图。

图4示意性地描绘了根据本发明的EBI系统的可能的控制体系架构。