[发明专利]感光性导电糊剂及导电图案形成用膜有效
| 申请号: | 201880062616.8 | 申请日: | 2018-10-05 |
| 公开(公告)号: | CN111149056B | 公开(公告)日: | 2023-07-25 |
| 发明(设计)人: | 水口创;小山麻里惠 | 申请(专利权)人: | 东丽株式会社 |
| 主分类号: | G03F7/004 | 分类号: | G03F7/004;G03F7/032;H01B1/22;H01B5/14;H05K1/09 |
| 代理公司: | 北京市金杜律师事务所 11256 | 代理人: | 杨宏军 |
| 地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 感光性 导电 图案 形成 | ||
感光性导电糊剂,其具有季铵盐化合物(A)、含羧基的树脂(B)、光聚合引发剂(C)、具有不饱和双键的反应性单体(D)及导电性粒子(E)。本发明提供感光性导电糊剂及导电图案形成用膜,所述感光性导电糊剂在低温且短时间内呈现导电性,通过光刻法能够形成暴露于高温高湿环境后的与ITO的密合性及耐弯曲性优异的微细布线。
技术领域
本发明涉及感光性导电糊剂及使用其的导电图案形成用膜。
背景技术
近年来,提出了通过使用感光性导电糊剂的光刻法,在耐热性低的基材上形成微细的导电图案的技术。为了在耐热性低的基板上形成导电图案,需要在不经过烧成工序(其通过高温加热来除去有机物)的情况下、在具有绝缘性的有机物中使导电性粒子彼此接触来形成导电通路。作为上述技术中使用的感光性导电糊剂,例如,提出了:包含具有2个以上烷氧基的化合物、具有不饱和双键的感光性成分、光聚合引发剂、导电性填料的导电糊剂(例如,参见专利文献1);包含导电粉末、有机粘结剂、光聚合性单体、光聚合引发剂及溶剂的感光性导电糊剂(例如,参见专利文献2);等等。
另一方面,提出了包含二羧酸及其酸酐、具有不饱和双键且酸值在40~200mgKOH/g的范围内的感光性成分、光聚合引发剂、导电性填料的感光性导电糊剂(例如,参见专利文献3)等。
现有技术文献
专利文献
专利文献1:日本特开2011-180580号公报
专利文献2:国际公开2004-061006号
专利文献3:国际公开2012-124438号
发明内容
发明要解决的课题
但是,由专利文献1、2的技术得到的导电图案存在硬、耐弯曲性低这样的课题。另外,就由专利文献3的技术得到的导电图案而言,在ITO等耐酸性低的基材的情况下,有暴露于高温高湿环境时密合性降低这样的课题。
因此,本发明的目的在于提供下述感光性导电糊剂及导电图案形成用膜,所述感光性导电糊剂在低温且短时间内呈现导电性,通过光刻法能够形成暴露于高温高湿环境后的与ITO的密合性及耐弯曲性优异的微细布线。
用于解决课题的手段
本申请的发明人进行了深入研究,结果发现,通过使感光性导电糊剂及导电图案形成用膜含有季铵盐化合物,从而能够促进金属原子从导电性粒子表面扩散,与以往相比,能够在低温且短时间内形成微细的导电图案,并且能够抑制基材的变形,使暴露于高温高湿环境后的与ITO的密合性及耐弯曲性提高,从而完成了本发明。
本发明为具有季铵盐化合物(A)、含羧基的树脂(B)、光聚合引发剂(C)、具有不饱和双键的反应性单体(D)及导电性粒子(E)的感光性导电糊剂及使用其的导电图案形成用膜。
发明的效果
根据本发明,可得到能够形成暴露于高温高湿环境后的与ITO的密合性优异、耐弯曲性优异的微细布线的感光性导电糊剂及导电图案形成用膜。通过使用它们并适当调节加工方法、构成构件,能够在曲面、锐角面上形成布线,得到耐久性高的压力传感器。
附图说明
[图1]为实施例的电阻率评价中使用的评价样品的示意图。
[图2]为实施例38中制作的压力传感器的截面示意图。
[图3]为实施例39中制作的压力传感器的截面示意图。
[图4]为实施例40中制作的电阻率测定用电路基板的截面、端面及上下表面的示意图。
[图5]为比较例4中制作的压力传感器的截面示意图。
具体实施方式
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