[发明专利]层叠体及其制造方法有效

专利信息
申请号: 201880055998.1 申请日: 2018-08-13
公开(公告)号: CN111050929B 公开(公告)日: 2022-07-22
发明(设计)人: 石关健二 申请(专利权)人: AGC株式会社
主分类号: B05D5/00 分类号: B05D5/00;C03C17/34;C08G65/336;C09K3/18
代理公司: 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 代理人: 刘新宇;李茂家
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 层叠 及其 制造 方法
【权利要求书】:

1.一种层叠体,其特征在于,具有:基材、设置于基材上的中间层、和设置于所述中间层上的表面层,

所述中间层为使用下式TN-1、下式TN-2或下式TS所示的三嗪化合物而形成的层,

所述表面层为使用含氟醚化合物而形成的层,所述含氟醚化合物具有聚(氧全氟亚烷基)链,且具有键合于硅原子的水解性基团以及键合于硅原子的羟基中的至少一者,

AN1为-N(RN1)-RN2-Si(RN3)Nn(ORN4)3-Nn或-N{RN2-Si(RN3)Nn(ORN4)3-Nn}2

AN2为-N(RN5)-RN6(NH2)Nm或-N{RN6(NH2)Nm}2

AN3为所述AN1、所述AN2或-N(RN7)-RN8

AN4为2价的烃基,

RN1、RN5及RN7各自独立地为氢原子或1价的烃基,

RN2为2价的烃基,

RN3及RN8各自独立地为1价的烃基,

RN4为氢原子或1价的烃基,

RN6为(Nm+1)价的烃基,

Nn为0~2的整数,Nm为1或2,

AS为-N(RS4)-RS1-Si(RS2)Sn(ORS3)3-Sn或-N{RS1-Si(RS2)Sn(ORS3)3-Sn}2

RS1为单键或2价的烃基,

RS2为1价的烃基,

RS3及RS4各自独立地为氢原子或1价的烃基,

MS1为氢原子或碱金属原子,

Sn为0~2的整数。

2.根据权利要求1所述的层叠体,其中,所述三嗪化合物为式TN-1或式TN-2所示的化合物。

3.根据权利要求1所述的层叠体,其中,所述三嗪化合物为式TS所示的化合物。

4.根据权利要求1或2所述的层叠体,其中,所述含氟醚化合物由下式1表示,

[A-O-Z1-(RfO)m-]jZ2[-SiRnL3-n]q 式1

A为全氟烷基或-Q[-SiRnL3-n]k

Q为(k+1)价的连接基团,

k为1~10的整数,

R为1价的烃基,

L为水解性基团或羟基,

n为0~2的整数,

Z1为单键、1个以上的氢原子被氟原子取代的碳数1~20的氧氟亚烷基或1个以上的氢原子被氟原子取代的碳数1~20的聚(氧氟亚烷基),

Rf为全氟亚烷基,

m为2~200的整数,

Z2为(j+q)价的连接基团,

j及q各自独立地为1以上的整数。

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