[发明专利]具有电极组件的等离子体腔室

权利要求书

1.一种用于等离子体工艺的处理工具，所述处理工具包括：

腔室主体，所述腔室主体具有内部空间，所述内部空间提供等离子体腔室，所述腔室主体具有顶板以及与顶板相对的一侧上的开口，

工件支撑件，所述工件支撑件固持工件，使得所述工件的前表面的至少一部分面向所述开口；

致动器，所述致动器在所述腔室主体和所述工件支撑件之间产生相对运动，使得所述开口侧向地移动横越过所述工件；

气体分配器，所述气体分配器将处理气体输送到所述等离子体腔室；

电极组件，所述电极组件包含多个共面丝，所述多个共面丝侧向地延伸通过所述工件支撑件和所述顶板之间的所述等离子体腔室，所述多个丝中的各个丝包含导体；及

第一RF电源，所述第一RF电源向所述电极组件的所述导体提供第一RF功率以形成等离子体。

2.如权利要求1所述的处理工具，其中所述工件支撑件可绕旋转轴旋转，且所述致动器转动所述工件支撑件，使得所述支撑件的旋转承载所述工件横越过所述开口。

3.如权利要求2所述的处理工具，其中所述多个共面丝延伸横越过楔形区域。

4.如权利要求3所述的处理工具，其中所述工件完整切合在所述楔形区域内，使得在操作中所述工件的整个前表面暴露于等离子体。

5.如权利要求3所述的处理工具，其中所述工件大于所述楔形区域，使得在操作中，所述工件的所述前表面的楔形部分暴露于等离子体。

6.如权利要求3所述的处理工具，其中所述开口是楔形的。

7.如权利要求3所述的处理工具，其中所述多个共面丝包括线性丝，且不同的丝具有不同的长度，以便限定所述楔形区域。

8.如权利要求7所述的处理工具，其中所述多个共面丝平行延伸。

9.如权利要求3所述的处理工具，其中所述多个共面丝经定向，以具有相对于所述开口下方的所述基板的所述部分的运动方向成非零角度的纵轴。

10.如权利要求1所述的处理工具，其中所述腔室的底部是打开的。

11.如权利要求1所述的处理工具，其中所述多个共面丝的导体的端通过递归式RF馈送结构连接到所述第一RF电源。

12.一种等离子体反应器，包括：

腔室主体，所述腔室主体具有内部空间，所述内部空间提供等离子体腔室；

气体分配器，所述气体分配器将处理气体输送到所述等离子体腔室；

泵，所述泵耦接所述等离子体腔室以抽空所述腔室；

工件支撑件，所述工件支撑件固持工件；

腔室内电极组件，所述腔室内电极组件包含多个丝，所述多个丝侧向地延伸通过所述等离子体腔室的顶板和所述工件支撑件之间的所述等离子体腔室，每个丝包含由圆柱形绝缘壳包围的导体，其中所述多个丝包含第一多重丝和第二多重丝，所述第二多重丝与所述第一多重丝以交替的模式布置，

第一总线与第二总线，所述第一总线耦接所述第一多重丝，所述第二总线耦接所述第二多重丝；

RF电源，所述RF电源将RF信号施加于所述腔室内电极组件；及

至少一个RF开关，所述至少一个RF开关经配置可控制地将所述第一总线与以下各者中的一个电耦接及去耦：i)地、ii)RF电源或iii)所述第二总线。

13.如权利要求12所述的等离子体反应器，其中所述至少一个RF开关经配置可控制地将所述第一总线与所述第二总线电耦接及去耦，以及其中所述至少一个RF开关包括在所述第一总线与所述第二总线的不同对位置之间并联连接的多个开关，以可控制地将所述第一总线与所述第二总线电耦接和去耦。