[发明专利]用于高效工艺窗口探索的混合检验系统有效

专利信息
申请号: 201880047936.6 申请日: 2018-07-24
公开(公告)号: CN110945636B 公开(公告)日: 2021-05-25
发明(设计)人: B·达菲 申请(专利权)人: 科磊股份有限公司
主分类号: H01L21/66 分类号: H01L21/66
代理公司: 北京律盟知识产权代理有限责任公司 11287 代理人: 刘丽楠
地址: 美国加利*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 用于 高效 工艺 窗口 探索 混合 检验 系统
【说明书】:

发明揭示一种检验系统,其包含控制器,所述控制器通信地耦合到物理检验装置PID、经配置以分析所存储PID数据的虚拟检验装置VID及缺陷验证装置DVD。所述控制器可:接收包含用定义工艺窗口的选定光刻配置制造的多个图案的样本的图案布局;接收通过用所述PID分析所述样本而识别的PID识别缺陷的位置,其中所述PID识别缺陷是通过所述DVD验证;从所述工艺窗口移除与所述PID识别缺陷的所述位置相关联的一或多个光刻配置;通过移除与通过用所述VID分析所存储PID数据的选定部分而识别的VID识别缺陷相关联的一或多个光刻配置而迭代地改善所述工艺窗口;及在满足选定结束条件时提供所述工艺窗口作为输出。

相关申请案的交叉参考

本申请案根据35 U.S.C.§119(e)规定主张指定布赖恩·达菲(Brian Duffy)为发明者,在2017年7月25日申请的标题为用于高效不合格品探索的混合检验器(HYBRIDINSPECTOR FOR EFFICIENT NON-CONFORMANCE DISCOVERY)的序列号为62/536,893的美国临时申请案的权益,所述申请案的全部内容以引用的方式并入本文中。

技术领域

本发明大体上涉及检验系统,且更特定来说,涉及用于工艺窗口确定的混合检验系统。

背景技术

半导体制造工艺(例如,光刻处理步骤)的工艺窗口表示参数范围,针对所述参数范围所关注图案能够可靠地制造于样本上而无大体性缺陷。所述工艺窗口的准确确定对于在制造期间提供准确度及处理量两者是至关重要的。过于限制的工艺窗口可对用于控制可能接近理论限制的相关参数的控制系统带来不必要的负担。此外,过于宽泛的工艺窗口可导致缺陷制造,这可负面影响装置性能或导致装置故障。然而,工艺窗口合格性鉴定通常可为费时且昂贵过程。因此,可需要提供先进工艺窗口合格性鉴定的系统及方法。

发明内容

揭示一种根据本发明的一或多个说明性实施例的检验系统。在一个说明性实施例中,所述系统包含控制器,所述控制器通信地耦合到物理检验装置(PID)、经配置以分析所存储PID数据的虚拟检验装置(VID)及缺陷验证装置(DVD)。根据本发明的一或多个说明性实施例,所述控制器接收包含用定义工艺窗口的选定光刻配置制造的多个图案的样本的图案布局。根据本发明的一或多个说明性实施例,所述图案布局使所述样本上的所述多个图案的位置与所述工艺窗口的所述光刻配置相关。根据本发明的一或多个说明性实施例,所述控制器接收PID识别缺陷的位置,其中所述PID识别缺陷是通过所述DVD验证。根据本发明的一或多个说明性实施例,所述控制器从所述工艺窗口移除与所述PID识别缺陷的所述位置相关联的一或多个光刻配置。根据本发明的一或多个说明性实施例,所述控制器通过移除与通过用所述VID分析所存储PID数据的选定部分而识别的VID识别缺陷相关联的一或多个光刻配置而迭代地改善所述工艺窗口。根据本发明的一或多个说明性实施例,所述控制器在满足选定结束条件时提供所述工艺窗口作为输出。

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