[发明专利]激光退火装置及激光退火方法在审
| 申请号： | 201880047929.6 | 申请日： | 2018-07-26 |
| 公开（公告）号： | CN110945627A | 公开（公告）日： | 2020-03-31 |
| 发明（设计）人： | 水村通伸 | 申请（专利权）人： | 株式会社V技术 |
| 主分类号： | H01L21/268 | 分类号： | H01L21/268;G02B3/00;H01L21/20 |
| 代理公司： | 北京同达信恒知识产权代理有限公司 11291 | 代理人： | 洪秀川 |
| 地址： | 日本神*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 激光 退火 装置 方法 | ||
1.一种激光退火装置，其特征在于，具备：
光源，其产生激光；
复眼透镜，其用于使所述激光的强度分布均匀；
投影掩模，其遮蔽通过了所述复眼透镜的激光；及
投影透镜，其将通过了所述投影掩模的激光形成向基板的规定的范围照射的激光束，
为了抑制干涉条纹通过所述投影掩模而能产生的莫尔条纹，使所述复眼透镜的排列方向相对于所述投影掩模的掩模图案的排列方向旋转规定角度地构成，其中，所述干涉条纹是所述激光通过所述复眼透镜而产生的干涉条纹。
2.根据权利要求1所述的激光退火装置，其特征在于，
所述投影透镜是将对所述投影掩模的至少一个开口进行投影的微透镜一维地或二维地排列的微透镜阵列。
3.根据权利要求1或2所述的激光退火装置，其特征在于，
所述复眼透镜是具有矩形形状的外形的结构，相对于所述矩形形状的外形的一条边，使所述复眼透镜的排列方向预先倾斜所述规定角度地形成。
4.一种激光退火方法，其是基于激光退火装置的激光退火方法，其特征在于，包括：
从产生激光的光源照射激光的照射步骤；
由复眼透镜使所述激光的强度分布均匀的均匀化步骤；
由投影掩模遮蔽通过了所述复眼透镜的激光的遮蔽步骤；及
由投影透镜将由所述投影掩模进行了遮蔽的激光形成为向基板的规定的范围照射的激光束的形成步骤，
所述激光退火装置为了抑制干涉条纹通过所述投影掩模而能产生的莫尔条纹，使所述复眼透镜的排列方向相对于所述投影掩模的掩模图案的排列方向旋转规定角度地构成，其中，所述干涉条纹是所述激光通过所述复眼透镜而产生的干涉条纹。
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H01L 半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
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