[发明专利]光纤及其制造方法在审

专利信息
申请号: 201880047487.5 申请日: 2018-07-17
公开(公告)号: CN110914726A 公开(公告)日: 2020-03-24
发明(设计)人: 丸山辽 申请(专利权)人: 株式会社藤仓
主分类号: G02B6/036 分类号: G02B6/036;C03B37/018;G02B6/028
代理公司: 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 代理人: 王玮;张丰桥
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 光纤 及其 制造 方法
【权利要求书】:

1.一种光纤,其特征在于,

所述光纤具备纤芯、包围所述纤芯的凹陷层、以及包围所述凹陷层的包层,

所述纤芯的折射率分布具有指数α为3.5以上6以下的α次方分布,

所述凹陷层相对于所述包层的相对折射率差Δ被设定为其绝对值|Δ|为0.01%以上0.045%以下,

所述纤芯的半径r1以及所述凹陷层的外周半径r2被设定为它们的比例r1/r2为0.2以上0.6以下,

22m的光缆截止波长λcc为1260nm以下,

波长1310nm的模场直径MFD为8.6μm以上9.5μm以下。

2.根据权利要求1所述的光纤,其特征在于,

所述纤芯的折射率分布具有指数α为5以上6以下的α次方分布。

3.根据权利要求1或2所述的光纤,其特征在于,

所述相对折射率差Δ被设定为其绝对值|Δ|为0.01%以上0.03%以下。

4.根据权利要求1~3中任一项所述的光纤,其特征在于,

所述半径r1以及所述外周半径r2被设定为它们的比例r1/r2为0.25以上0.55以下。

5.根据权利要求1~4中任一项所述的光纤,其特征在于,

所述纤芯相对于所述包层的相对折射率差Δ+被设定为0.30%以上0.45%以下。

6.根据权利要求1~5中任一项所述的光纤,其特征在于,

零色散波长ZDW为1305nm以上。

7.根据权利要求6所述的光纤,其特征在于,

所述零色散波长ZDW为1307nm以上。

8.根据权利要求1~7中任一项所述的光纤,其特征在于,

所述模场直径MFD为8.8μm以上9.4μm以下。

9.根据权利要求1~8中任一项所述的光纤,其特征在于,

(1)卷绕于半径10mm的圆筒形的心轴时的波长1550nm的损耗增加小于0.75dB/turn,(2)卷绕于半径10mm的圆筒形的心轴时的波长1625nm的损耗增加小于1.5dB/turn,(3)卷绕于半径15mm的圆筒形的心轴时的波长1550nm的损耗增加小于0.25dB/10turn,(4)卷绕于半径15mm的圆筒形的心轴时的波长1625nm的损耗增加小于1.0dB/10turn。

10.一种制造方法,该制造方法制造权利要求1~9中任一项所记载的光纤,

所述制造方法的特征在于,

包含通过VAD(Vapor-phase Axial Deposition:气相轴向沉积)法来制造所述光纤的母材的工序。

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