[发明专利]软磁性多层件沉积设备、制造磁性多层件的方法和磁性多层件

权利要求书

1.一种软磁性材料多层件沉积设备，包括：

• 围绕轴线的圆形的连续内部空间真空运输室；

• 沿着与所述轴线垂直的平面，包括大量基板载体的圆形布置，其位于所述圆形的连续内部空间中并且与所述轴线同轴；

• 沿着与所述轴线垂直的平面设置的基板处理站的圆形布置，所述基板处理站的圆形布置的所述处理站可进行共同处理操作而进入所述圆形的连续内部空间中；

• 旋转驱动器，其在所述大量基板载体的所述圆形布置与所述处理站的圆形布置之间可操作地耦接，以便于建立所述大量基板载体的所述圆形布置与所述处理站的圆形布置之间的相对旋转；

• 所述大量基板载体的所述圆形布置和所述处理站的圆形布置相互对准；

所述基板处理站的布置包括：

• 至少一个第一溅镀沉积站和至少一个第二溅镀沉积站，其各自带有单个靶；

• 所述第一溅镀沉积站，其具有用于作为层的材料而被沉积于所述基板上的第一软磁性材料的第一靶；

• 所述第二溅镀沉积站，其具有与所述第一软磁性材料不同并且用于作为层的材料而被沉积于所述基板上的第二软磁性材料的第二靶；

所述设备进一步包括：

• 控制单元，其可操作地耦接到所述处理站的布置的所述处理站并且耦接到所述旋转驱动器，并且被配置成控制所述第一溅镀沉积站和所述第二溅镀沉积站，以便于至少在所述大量基板载体的所述布置相对于所述处理站的布置并且围绕所述轴线的不止一次360°转动期间，朝向并且对包括所述大量基板载体的所述圆形布置持续地启动和进行溅镀沉积，所述360°转动紧接着彼此而进行，并且其中所述第一溅镀沉积站和所述第二溅镀沉积站是成对的相互邻近的站或者所述第一溅镀沉积站和所述第二溅镀沉积站之间额外的处理站在所述转动期间被停止。

2.根据权利要求1所述的软磁性材料多层件沉积设备，所述圆形的连续内部空间是环形的，并且所述大量基板载体的所述布置或所述处理站的布置被装配到环形的所述内部空间的径向外圆形表面或被装配到环形的所述内部空间的顶表面或底表面。

3.根据权利要求1所述的软磁性材料多层件沉积设备，所述圆形的连续内部空间是环形的，并且所述大量基板载体的所述布置或所述处理站的布置被装配到环形的所述内部空间的径向内圆形表面。

4.根据权利要求1所述的软磁性材料多层件沉积设备，所述圆形的连续内部空间是圆柱形的，并且所述大量基板载体的所述布置或所述处理站的布置被装配到作为圆柱形的所述内部空间的环绕表面的圆形表面或被装配到圆柱形的所述内部空间的底表面或被装配到顶表面。

5.根据权利要求1至4中的一项所述的软磁性材料多层件沉积设备，其中，所述处理站的布置是固定的，并且所述大量基板载体的所述布置是可旋转的。

6.根据权利要求1至4中的一项所述的软磁性材料多层件沉积设备，其中，所述第一靶包括出自Fe、Ni、Co族的一种或不止一种元素或由其组成，并且所述第二靶包括Fe、Ni、Co族的一种或不止一种元素或由其组成。

7.根据权利要求1至4中的一项所述的软磁性材料多层件沉积设备，其中，所述第一靶由Fe、Ni、Co族的一种或不止一种元素和至少一种非铁磁性元素组成，和/或所述第二靶由出自Fe、Ni、Co族的一种或不止一种元素和至少一种非铁磁性元素组成。

8.根据权利要求7所述的软磁性材料多层件沉积设备，其中，所述至少一种非铁磁性元素是根据IUAPC的13、4、5族出自周期系的IIIA、IVB以及VB族的至少一种元素。

9.根据权利要求1至4中的一项所述的软磁性材料多层件沉积设备，其中，所述第一靶包括Fe、Ni、Co族的一种或不止一种元素或由其组成，并且所述第二靶包括Fe、Ni、Co族的一种或不止一种元素或由其组成，并且进一步包括与所述第一溅镀沉积站和/或所述第二溅镀沉积站邻近并且具有至少一个非铁磁性元素的靶的至少一个另外的溅镀沉积站。