[发明专利]用于陶瓷材料的化学机械抛光的氧化流体

权利要求书

1.一种用于化学机械抛光的流体组合物，包含：

溶剂；

0.5-5重量％第一氧化剂，其包含高锰酸盐的离子、盐、酸或碱或者Ce⁺⁴，且具有0.4v或更大的氧化电位；

0.1-0.5重量％第二氧化剂，其包含过硫酸盐的离子、盐、酸或碱，且具有高于所述第一氧化剂的氧化电位；以及

0.05-0.75重量％多价阳离子组分，其包含Al⁺³、Fe⁺³或Co⁺³。

2.根据权利要求1所述的流体组合物，其中所述多价阳离子组分为盐、酸或碱。

3.根据权利要求1所述的流体组合物，其中所述多价阳离子组分包含阴离组分，所述阴离子组分包含硝酸盐、四氟硼酸盐、氟硫酸盐、六氟磷酸盐、氟膦酸盐、硒酸盐、硫酸盐、磷酸盐、氯化物、氟化物或氨基酸盐。

4.根据权利要求1所述的流体组合物，其中所述多价阳离子组分包含硝酸铝或硝酸铁。

5.根据权利要求1所述的流体组合物，其中所述多价阳离子组分为游离的作用离子或络合物的一部分。

6.根据权利要求1所述的流体组合物，其中所述第一氧化剂包含高锰酸钠或高锰酸钾。

7.根据权利要求1所述的流体组合物，其中所述第二氧化剂包含过硫酸钠或过硫酸钾。

8.根据权利要求1所述的流体组合物，其中所述流体组合物基本上不含 磨料颗粒。

9.根据权利要求1所述的流体组合物，其中所述溶剂为水。

10.一神抛光无机材料的方法，包括：

将根据权利要求1-9任一项所述的流体组合物施加于抛光垫﹔以及

用所述抛光垫对所述无机材料进行抛光。

11.根据权利要求10所述的方法，其中所述无机材料包含碳化硅、氮化镓、砷化镓、氮化铝、磷化铟、碲化镉、碲化锌、硒化锌、砷化镉、碲化铋或它们的组合。

12.根据权利要求10所述的方法，其中所述无机材料为元素周期表中的第14族单一元素或元素周期表中的第16族单一元素。

13.根据权利要求10所述的方法，其中所述抛光垫包括纺织品、聚氨酯、聚乙烯、聚酯、聚氯乙烯、聚碳酸酯、聚酰胺、聚丙烯酸酯、聚苯乙烯、聚丙烯、尼龙或它们的组合。

14.根据权利要求10所述的方法，其中所述抛光后的无机材料的总表面粗糙度小于

15.根据权利要求10所述的方法，其中所述抛光的材料去除率大于0.2微米/小吋。