[发明专利]光谱仪在审
| 申请号： | 201880038521.2 | 申请日： | 2018-04-09 |
| 公开（公告）号： | CN110753834A | 公开（公告）日： | 2020-02-04 |
| 发明（设计）人： | 斯蒂芬·弗雷德里奇 | 申请（专利权）人： | 安瓦约有限公司 |
| 主分类号： | G01J3/02 | 分类号： | G01J3/02;G01J3/18;G02B5/18 |
| 代理公司： | 11291 北京同达信恒知识产权代理有限公司 | 代理人： | 何月华 |
| 地址： | 德国德*** | 国省代码： | 德国;DE |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 传感器元件 电磁辐射 光栅 物镜装置 壳体 衍射 法线 光谱仪 平面光栅 角度对准 第一级 入射 平行 聚焦 辐射 配置 | ||
1.一种具有壳体(11)的光谱仪，其中，
布置有平面光栅(2)、物镜装置(6)和传感器元件(7)，所述平面光栅(2)布置为与所述壳体(11)的孔(1)相对并且相对于所述孔(1)的法线以小于45°的角度对准，其中，
所述孔(1)的尺寸被设计成使得在电磁辐射平行于所述孔(1)的法线入射的情况下，所述光栅(2)的表面被完全辐射，其中，
为了将所述电磁辐射聚焦到所述传感器元件(7)上，所述物镜装置(6)布置在所述光栅(2)和所述传感器元件(7)之间，使得：
仅将所述电磁辐射的由所述光栅(2)衍射的第一级衍射或更高级的衍射定向至所述物镜装置(6)和所述传感器元件(7)上。
2.根据权利要求1所述的光谱仪，其特征在于，入射的所述电磁辐射从所述孔(1)穿过直接到达所述光栅(2)上。
3.根据权利要求1或2所述的光谱仪，其特征在于，所述孔(1)具有至少在0.5mm和2.5mm之间、优选为1mm的直径或宽度。
4.根据前述权利要求中任一项所述的光谱仪，其特征在于，所述光栅(2)相对于所述法线对准的角度在5°和15°之间、优选地在7°和10°之间、特别优选为7.5°。
5.根据前述权利要求中任一项所述的光谱仪，其特征在于，所述孔(1)与所述光栅(2)之间的距离在1mm和40mm之间、优选地在10mm和30mm之间、特别优选为20mm。
6.根据前述权利要求中任一项所述的光谱仪，其特征在于，所述光栅(2)设置有涂层，所述涂层反射入射的所述电磁辐射的至少90％。
7.根据前述权利要求中任一项所述的光谱仪，其特征在于，所述物镜装置(6)具有至少两个聚焦透镜。
8.根据前述权利要求中任一项所述的光谱仪，其特征在于，所述物镜装置(6)具有在1mm和4mm之间、优选地为2mm的焦距。
9.根据前述权利要求中任一项所述的光谱仪，其特征在于，所述传感器元件(7)是光电二极管线阵列或图像传感器。
10.一种具有根据前述权利要求中任一项所述的光谱仪的手机(13)。
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