[发明专利]旋转照射装置及其旋转照射方法以及旋转照射治疗装置

说明书

实施方式的旋转照射装置具备：旋转机架(3)；超导电磁铁(5)，设置于旋转机架(3)，并且形成使带电粒子束的轨道偏转的偏转磁场和使带电粒子束聚束的聚束磁场中的至少一方，将带电粒子束引导至照射对象；旋转机架驱动部(24)，旋转驱动旋转机架(3)；以及控制装置(20)，控制旋转机架驱动部(24)，以在超导电磁铁(5)被励磁的期间，使旋转机架(3)旋转并停止。

技术领域

本发明的实施方式涉及从周向的任意的角度对照射对象照射带电粒子束的旋转照射装置、旋转照射方法以及旋转照射治疗装置。

背景技术

一般来说，旋转照射治疗装置是通过绕患者旋转，从周向的任意的角度对患者照射由同步加速器等加速器加速至高能量的带电粒子束的装置。因此，旋转照射治疗装置具备能够绕患者旋转的旋转框架(以下，记作旋转机架)。

由上述同步加速器等加速器加速至高能量的带电粒子束被引导至该旋转机架的旋转中心方向。被引导到该旋转中心方向的带电粒子束通过设置有超导电磁铁的射束输送装置而暂时地向旋转机架的外周方向弯曲，然后再次向其内周方向弯曲，而被引导至治疗室。被引导到治疗室的带电粒子束从照射部向作为照射对象的患者的患部进行照射。

另外，旋转照射治疗装置为了对患者改变带电粒子束的照射角，而改变旋转机架的旋转角度。以往，在改变照射角而照射带电粒子束时，在使超导电磁铁无励磁状态下使旋转机架旋转并停止在所希望的角度。之后，对超导电磁铁进行励磁，照射带电粒子束。

现有技术文献

专利文献

专利文献1：日本特开平11－47287号公报

专利文献2：日本特开平9－192244号公报

发明内容

发明要解决的课题

然而，在上述的以往的旋转照射治疗装置的运用方法中，由于在使超导电磁铁无励磁状态下使旋转机架旋转，因此在旋转机架旋转时被施加的重力方向的力的作用下，超导电磁铁内的构成部件有时会微小地偏移。由此，超导电磁铁存在在旋转停止后的励磁时机械性失超(quench)的问题。其结果，对于旋转照射治疗装置而言成为了阻碍顺利治疗的重要因素。以下，对失超的理由进行具体说明。

即，超导电磁铁主要由产生磁场的线圈和承受电磁力的电磁力支承部件构成。通常，在使旋转机架旋转时，带电粒子束不通过超导电磁铁，因此在无励磁状态下进行旋转。这样，在无励磁状态下，由于在线圈中不产生电磁力，因此成为在电磁力支承部件与线圈之间未产生摩擦力、或摩擦力较小的状态。

若在该状态下施加伴随着旋转机架的旋转的加速度以及振动，则在超导电磁铁内，在线圈与电磁力支承部件之间有时会产生微小的偏移、变形。由于该偏移、变形，在对超导电磁铁进行了重新励磁时，有时会因偏移、变形的消除所带来的机械性干扰而发热，并诱发失超。

当超导电磁铁失超时，会发热，因此需要停止旋转照射治疗装置的运转，等待超导电磁铁的重新冷却并重新启动。由此，存在不得不停止旋转照射治疗装置的治疗、治疗时间变长这一问题。

本实施方式要解决的课题在于，提供一种能够防止伴随着旋转机架的旋转的超导电磁铁内的构成部件的偏移、变形的旋转照射装置、旋转照射方法以及旋转照射治疗装置。

用于解决课题的手段

为了解决上述课题，本实施方式的旋转照射装置的特征在于，具备：旋转机架；超导电磁铁，设置于所述旋转机架，并且形成使带电粒子束的轨道偏转的偏转磁场和使所述带电粒子束聚束的聚束磁场中的至少一方，将所述带电粒子束引导至照射对象；旋转机架驱动部，旋转驱动所述旋转机架；以及控制装置，控制所述旋转机架驱动部，以在所述超导电磁铁被励磁的期间，使所述旋转机架旋转并停止。

本实施方式的旋转照射治疗装置的特征在于，具有上述实施方式的旋转照射装置。