[发明专利]旋转照射装置及其旋转照射方法以及旋转照射治疗装置有效
申请号: | 201880017816.1 | 申请日: | 2018-03-13 |
公开(公告)号: | CN110418667B | 公开(公告)日: | 2021-06-15 |
发明(设计)人: | 野中智幸;松田晋弥;折笠朝文 | 申请(专利权)人: | 株式会社东芝;东芝能源系统株式会社 |
主分类号: | G21K1/093 | 分类号: | G21K1/093;A61N5/10;G21K5/04;H05H7/02 |
代理公司: | 永新专利商标代理有限公司 72002 | 代理人: | 房永峰 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 旋转 照射 装置 及其 方法 以及 治疗 | ||
1.一种旋转照射装置,其特征在于,具备:
旋转机架;
超导电磁铁,设置于所述旋转机架,并且形成使带电粒子束的轨道偏转的偏转磁场和使所述带电粒子束聚束的聚束磁场中的至少一方,将所述带电粒子束引导至照射对象;
旋转机架驱动部,旋转驱动所述旋转机架;以及
控制装置,控制所述旋转机架驱动部,以在所述超导电磁铁被励磁且所述带电粒子束没有被照射时使所述旋转机架旋转并停止。
2.如权利要求1所述的旋转照射装置,其特征在于,
所述控制装置具备:
电磁铁电源控制部,控制电磁铁电源对所述超导电磁铁的励磁定时;
照射控制部,控制所述带电粒子束的射出的接通、断开;以及
旋转机架驱动控制部,控制所述旋转机架驱动部,以进行所述旋转机架的旋转以及停止的动作。
3.如权利要求2所述的旋转照射装置,其特征在于,
所述旋转照射装置还具备信号线,该信号线将所述超导电磁铁、所述电磁铁电源以及所述电磁铁电源控制部相互连接。
4.如权利要求2或3所述的旋转照射装置,其特征在于,
所述电磁铁电源控制部能够多级地切换所述超导电磁铁的励磁量。
5.如权利要求2或3所述的旋转照射装置,其特征在于,
所述电磁铁电源控制部将所述超导电磁铁的励磁量控制为下一次照射时的励磁量。
6.如权利要求1所述的旋转照射装置,其特征在于,
所述旋转照射装置还具备数据存储部,该数据存储部记录有所述带电粒子束的照射定时、所述超导电磁铁的励磁量以及励磁定时、所述旋转机架的旋转接通、断开动作的定时的各数据,该数据存储部在照射所述带电粒子束之前将所述数据输出至所述控制装置。
7.一种旋转照射治疗装置,其特征在于,
具有权利要求1~3、6中任一项所述的旋转照射装置。
8.一种旋转照射装置的旋转照射方法,该旋转照射装置,具备:旋转机架;超导电磁铁,设置于所述旋转机架,并且形成使带电粒子束的轨道偏转的偏转磁场和使所述带电粒子束聚束的聚束磁场中的至少一方,将所述带电粒子束引导至照射对象;旋转机架驱动部,旋转驱动所述旋转机架;以及控制装置,控制所述旋转机架驱动部,
所述旋转照射装置的旋转照射方法的特征在于,具备如下工序:
所述控制装置进行控制以对所述超导电磁铁进行励磁的工序;
所述控制装置进行控制以便在规定的时间进行所述带电粒子束的照射的工序;以及
在所述超导电磁铁被励磁的状态下且所述带电粒子束没有被照射时,所述控制装置控制旋转机架驱动部,以使所述旋转机架旋转并停止的工序。
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