[发明专利]确定用于处理光刻掩模的缺陷的修复形状的装置和方法

权利要求书

1.一种用于确定用于处理光刻掩模(100)的至少一个缺陷(140)的修复形状(195)的方法，其中该方法包含以下步骤：

a.决定该至少一个缺陷(140)的修复形状(195)的至少两个局部空间相关的校正值(185)，其中该至少两个局部空间相关的校正值为不同的值，该至少两个局部空间相关的校正值(185)考虑该光刻掩模(100)的至少一个图案元素(130)的位置(175)，该至少一个图案元素没有接触该至少一个缺陷(140)；以及

b.通过应用该至少两个局部空间相关的校正值(185)来校正该修复形状(195)。

2.一种用于确定用于处理光刻掩模(100)的至少一个缺陷(140)的修复形状(195)的方法，其中该方法包含以下步骤：

a.决定该至少一个缺陷(140)的修复形状(195)的至少两个局部空间相关的校正值(185)，其中该至少两个局部空间相关的校正值为不同的值，该至少两个局部空间相关的校正值(185)考虑该至少一个缺陷(140)在该光刻掩模(100)的基板(110)的表面上的横向范围(180)；以及

b.通过应用该至少两个局部空间相关的校正值(185)来校正该修复形状(195)。

3.一种用于确定用于处理光刻掩模(100)的至少一个缺陷(240)的修复形状(295)的方法，其中该方法包含以下步骤：

a.决定该至少一个缺陷(240)的修复形状(295、395)的至少两个局部空间相关的校正值(285、385)，其中该至少两个局部空间相关的校正值为不同的值，该至少两个局部空间相关的校正值(285、385)考虑该光刻掩模(100)的至少一个图案元素(220)的形式，该至少一个图案元素接触该至少一个缺陷(140、240)；以及

b.通过应用该至少两个局部空间相关的校正值(285、385)来校正该修复形状(295)。

4.如权利要求3所述的方法，其中该至少两个局部空间相关的校正值(285)考虑该至少一个图案元素(220)的横向尺寸(280)。

5.如权利要求3所述的方法，其中该至少两个局部空间相关的校正值(385)考虑该至少一个图案元素(220)的至少一个转角(340、350)。

6.如权利要求5所述的方法，其中若该转角(350)突出到该至少一个缺陷(140)中，则相较于在该图案元素(120)的直线区域附近的校正值，该至少两个局部空间相关的校正值(385)导致在该至少一个图案元素(120)的该至少一个转角(350)附近的修复形状(395)的减小，和/或其中若该至少一个缺陷(140)突出到该至少一个图案元素(120)的转角(340)中，则相较于在该图案元素(120)的直线区域附近的校正值，该至少两个局部空间相关的校正值(385)导致在该至少一个图案元素(120)的至少一个转角(340)附近的修复形状(395)的增加。

7.如权利要求4或5所述的方法，其中该至少两个局部空间相关的校正值(285、385)考虑该至少一个图案元素(220)的横向尺寸(280)和该至少一个图案元素(120、220)的至少一个转角(340、350)。

8.如权利要求1至6中任一项所述的方法，其中决定该至少两个局部空间相关的校正值(185、285、385)还包含：考虑该至少一个图案元素(120、130、220)的厚度和/或材料组成。

9.如权利要求1至6中任一项所述的方法，其中决定该至少两个局部空间相关的校正值(185、285、385)还包含：考虑该至少一个缺陷(140、240)的厚度和/或材料组成。

10.如权利要求1至6中任一项所述的方法，其中处理该至少一个缺陷(140、240)包含：在该至少一个缺陷(140、240)的校正的修复形状(195、295、395)上执行粒子束诱发蚀刻程序和/或粒子束诱发沉积程序。