[发明专利]用于制造摆式阻尼装置的方法及通过这种方法获得的装置

权利要求书

1.一种用于制造摆式阻尼装置(1、11)的方法(12、14)，包括步骤(12)：组装至少一个摆质量(2、20)，其能够在支撑件(4)上移动，所述摆质量(2、20)由两个飞重(3、17)构成，在所述支撑件(4)的每一侧上各布置一个，通过至少一个间隔件(6)连接在内面(5)之间，所述间隔件(6)穿过所述支撑件(4)中的槽(10)，辊布置在所述摆质量和支撑件之间，其特征在于，它包括预备步骤(14)，所述预备步骤(14)包括：

-第一阶段(16)，使用冲压在每个所述飞重(17)中形成第一预定直径的第一孔，所述第一预定直径至少等于每个所述飞重(17)的厚度；

-第二阶段(18)，使用冲压在所述飞重(17)的外面(9)上的每个所述第一孔中的预定深度上形成埋头孔(19)，将所述飞重(17)的材料镦粗成所述第一孔；

-第三阶段(21)，使用冲压在所述第一孔中制成第二预定直径的第二孔；

所述厚度与所述预定深度之间的差值至多等于所述第二预定直径。

2.如权利要求1所述的用于制造摆式阻尼装置(11)的方法(12、14)，其特征在于，所述预备步骤还包括在所述埋头孔周围对飞重的外面(9)进行锪孔的阶段。

3.如权利要求1和2中任一项所述的用于制造摆式阻尼装置(11)的方法(12、14)，其特征在于，所述组装步骤(12)包括：

-第一序列(22)：将铆钉(23)插入每个所述孔中，所述铆钉由金属柄(23)形成，所述金属柄的标称直径基本上等于所述第二预定直径；

-第二序列：通过在所述铆钉(23)的端部上使用按扣形成两个镦头(25)，每个所述镦头(25)基本上包含在所述埋头孔(19)内。

4.如前述权利要求2和3中任一项所述的用于制造摆式阻尼装置(11)的方法(12、14)，其特征在于，所述埋头孔(19)的填充水平大于80％，优选大于90％。

5.如前述权利要求2至4中任一项所述的用于制造摆式阻尼装置(11)的方法(12、14)，其特征在于，从所述第一序列(22)到所述第二序列(24)的所有操作(24)被冷执行。

6.如前述权利要求2至5中任一项所述的用于制造摆式阻尼装置(11)的方法(12、14)，其特征在于，所述材料是具有第一维氏硬度在100和450Hv之间的钢片材(15)，并且所述金属柄(23)的材料具有40至100HrB的布氏硬度。

7.如前述权利要求1至6中任一项所述的用于制造摆式阻尼装置(11)的方法(12、14)，其特征在于，所述第一和第二预定直径分别为8mm和6mm，所述预定深度是2mm，且所述厚度是8mm。

8.一种摆式阻尼装置(1、11)，包括至少一个摆质量(2、20)，其能够在支撑件(4)上移动，所述摆质量(2、20)由两个飞重(3、17)构成，在所述支撑件(4)的每一侧上各布置一个，通过至少一个间隔件(6)连接在内面(5)之间，所述间隔件(6)穿过所述支撑件(4)中的槽(10)，辊布置在所述摆质量和支撑件之间，其特征在于，所述铆钉(23)包括两个镦头(25)。

9.如前述权利要求8所述的摆式阻尼装置(11)，其特征在于，所述镦头(25)至少部分地包含在所述飞重(17)的外面(9)的埋头孔(19)内。

10.如前述权利要求9所述的摆式阻尼装置(11)，其特征在于，所述埋头孔(19)的填充水平大于80％，优选大于90％。