[发明专利]基板处理系统有效
| 申请号： | 201880012674.X | 申请日： | 2018-01-12 |
| 公开（公告）号： | CN110313060B | 公开（公告）日： | 2023-10-24 |
| 发明（设计）人： | 羽岛仁志;松冈伸明;中岛常长;安武孝洋;船越秀朗;中村泰之 | 申请（专利权）人： | 东京毅力科创株式会社 |
| 主分类号： | H01L21/677 | 分类号： | H01L21/677;H01L21/027 |
| 代理公司： | 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 | 代理人： | 刘新宇;张会华 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 处理 系统 | ||
1.一种基板处理系统，其具备用于处理基板的处理装置，在该处理装置设置有用于输送基板的基板输送区域，在该基板处理系统中，
该基板处理系统具备声波辐射装置，该声波辐射装置辐射声波，防止所述基板输送区域内的浮游微粒向基板附着。
2.根据权利要求1所述的基板处理系统，其中，
所述声波辐射装置设置于所述基板输送区域的与所述处理装置的基板输入输出口相邻的区域。
3.根据权利要求1所述的基板处理系统，其中，
该基板处理系统具备用于载置盒的盒载置部，该盒用于收容基板，
所述声波辐射装置设置于所述基板输送区域的、与相对于所述盒载置部而言的基板输入输出口相邻的区域。
4.根据权利要求1所述的基板处理系统，其中，
该基板处理系统具备基板输送装置，该基板输送装置在所述基板输送区域内移动，并输送基板，
所述声波辐射装置安装于所述基板输送装置。
5.根据权利要求1所述的基板处理系统，其中，
所述声波辐射装置被支承成能够摆动。
6.根据权利要求1所述的基板处理系统，其中，
所述基板输送区域具有吸附尘埃的吸附区域。
7.根据权利要求1所述的基板处理系统，其中，
所述声波辐射装置所辐射的声波具有指向性。
8.根据权利要求1所述的基板处理系统，其中，
该基板处理系统具备与所述基板输送区域相邻的装置，
所述声波辐射装置以朝向所述基板输送区域辐射声波的方式设置于所述相邻的装置。
9.根据权利要求8所述的基板处理系统，其中，
所述相邻的装置是为了交接基板而收容基板的收容装置，
所述声波辐射装置设置于在将基板收容到所述收容装置时以将该基板夹在中间的方式与所述基板输送区域相对的位置。
10.根据权利要求8所述的基板处理系统，其中，
所述声波辐射装置与在所述基板输送区域内移动并输送基板的基板输送装置的动作相应地辐射声波。
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H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
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