[发明专利]树脂膜形成方法以及掩膜

说明书

本发明的树脂膜形成方法为在基板上形成图案化的树脂膜的方法，至少按顺序具备：第一工序，使用掩膜主体具有可挠性支撑部与粘结部重叠的结构的掩膜，以使所述粘结部相对于所述基板相接的方式来设置所述掩膜；第二工序，通过设置在所述掩膜主体的开口部，将汽化的树脂材料供给到所述基板并使其在该基板上凝缩，当在该基板上形成液状的树脂材料膜之后，对该树脂材料膜和所述掩膜照射UV光；以及第三工序，将所述掩膜从所述基板剥离。

技术领域

本发明涉及可实现低成本化及作业简单化的树脂膜形成方法、以及在树脂膜的形成中具备有效结构的掩膜。

本申请基于2017年2月21日于日本申请的特愿2017-030320号主张优先权，在此援用其内容。

背景技术

作为由高分子有机物构成的树脂膜的制法，广泛使用蒸镀聚合法和紫外线固化法。这两种制法均为将低分子有机物气体导入到减压后的处理槽内，使被供给到被处理体上的树脂材料发生聚合反应，以在被处理体的表面上形成高分子树脂膜的方法，且均具有树脂膜相对于被处理体表面的覆盖率(包覆率)良好的特点。在专利文件1中公开了适于这些制法的成膜装置。

图7示出了使用金属掩膜来将树脂膜成膜的工艺。作为树脂膜的代表例，例示出丙烯酸树脂膜。

首先，在对基板S实施了无机保护膜形成等前处理之后，将基板S向成膜室内移动(SX1、SX2)。

在成膜室内(减压气氛)，如图8～图10所示，将设置了所期望的开口部的金属掩膜MX配置在基板S的被成膜面上(SX3)。据此，如图10所示，位于开口部位置的基板S的被成膜面成为暴露状态。

接着，如图11所示，经由金属掩膜MX在基板S上形成丙烯酸材料膜f(SX4)。丙烯酸材料膜f由将基板S包覆的部位f1和与部位f1相连并将金属掩膜MX包覆的部位f2构成[图11B]。

接着，对丙烯酸材料膜f照射紫外线(UV)，在使丙烯酸材料膜f固化并形成丙烯酸树脂膜F之后，如图12所示，通过使金属掩膜MX向箭头的方向移动，从而将金属掩膜MX从基板S剥离(SX5、SX6)。金属掩膜MX在一次成膜之后或者在更换基板以多次使用(多次进行成膜)之后，被清洁并再使用。

在这种装置中，需要用于对金属掩膜MX进行清洁的设备。进而，需要用于在真空中使金属掩膜MX与基板对位的校准机构。

专利文件1：日本专利第4112702号公报

发明内容

本发明是有鉴于上述情况而作出的，其目的在于提供一种在使用了掩膜的树脂膜形成中，可实现低成本化及作业简单化的树脂膜形成方法。

本发明的第一方式所涉及的树脂膜形成方法为在基板上形成图案化的树脂膜的方法，至少按顺序具备：第一工序(工序α)，使用掩膜主体具有可挠性(薄膜状)支撑部与粘结部重叠的结构的掩膜，以使所述粘结部相对于所述基板(被成膜面)相接的方式来设置所述掩膜；第二工序(工序β)，通过设置在所述掩膜主体的开口部，将汽化的树脂材料供给到所述基板(被成膜面)并使其在该基板上凝缩，当在该基板上形成液状的树脂材料膜之后，对该树脂材料膜和所述掩膜照射UV光；以及第三工序(工序γ)，将所述掩膜从所述基板剥离。

在本发明的第一方式所涉及的树脂膜形成方法中，使用相对于所述基板的粘合性因UV光的照射而降低的部件来作为所述粘结部。

在本发明的第一方式所涉及的树脂膜形成方法中，进行控制以使所述树脂材料膜的厚度不超过所述粘结部的厚度。

在本发明的第一方式所涉及的树脂膜形成方法中，所述第一工序和所述第三工序在大气压气氛下进行，所述第二工序在减压气氛下进行。