[实用新型]一种绷膜机工装

说明书

本实用新型涉及一种绷膜机工装，包括密闭的壳体，以及位于壳体内腔中的绷膜机主体；所述绷膜机主体受控于转动装置，且被配置为在转动装置的驱动下转动至使绷膜机主体的扩膜平面朝下；还包括通风系统，所述通风系统被配置：为绷膜机主体提供自上而下的气流。本工装实现了在扩膜过程中，将额外的硅渣进行清除功能，减少了因硅渣而造成的额外损伤，对于产品的后续工序等起到增加效率、减少残品率，从而节省成本的作用。

技术领域

本实用新型涉及一种绷膜机，更具体地，本实用新型涉及一种绷膜机工装。

背景技术

目前针对激光切割完的晶元，需要采用绷膜机进行平台抬升，从而拉伸贴膜，以对晶元与晶元间的间隙进行扩张，从而达到需求的间隙(在0.03mm—0.085mm之间)，方便后续其他工序的开展。

现有绷膜机的功能单一，激光切割完的硅渣会残留在晶元膜表面，而且难以去除，从而使晶元的切割质量下降。在绷膜机的绷膜工序后依然无法去除，不利于后续工序的开展。

实用新型内容

本实用新型的一个目的是提供了一种绷膜机工装。

根据本实用新型的一个方面，提供一种绷膜机工装，包括密闭的壳体，以及位于壳体内腔中的绷膜机主体；所述绷膜机主体受控于转动装置，且被配置为在转动装置的驱动下转动至使绷膜机主体的扩膜平面朝下；还包括通风系统，所述通风系统被配置：为绷膜机主体提供自上而下的气流。

可选地，所述通风系统包括设置在壳体上端的进风口、设置在壳体下端的出风口；

还包括设置在进风口位置的引风机，和/或设置在出风口位置的排风机。

可选地，所述进风口还设置有过滤网。

可选地，所述壳体包括机架；所述绷膜机主体通过位于其两侧的转轴转动连接在机架上；所述转动装置与绷膜机主体其中一侧的转轴传动连接。

可选地，还包括固定在机架上的静电消除器；所述静电消除器被配置为：消除翻转至朝下的扩膜平面上的静电。

可选地，所述转动装置包括电机，以及与电机连接的减速器；所述减速器的输出端与绷膜机主体其中一侧的转轴传动连接。

可选地，所述减速器的输出端通过联轴器与绷膜机主体其中一侧的转轴传动连接。

可选地，还包括设置在绷膜机主体与机架之间的碟刹盘组件，所述碟刹盘组件被配置为：始终为绷膜机主体的转动提供阻力。

可选地，所述碟刹盘组件包括固定在绷膜机主体或者转轴上的碟刹盘，以及设置在机架上的碟刹块；所述碟刹块始终与碟刹盘配合在一起。

可选地，所述碟刹块设置有两个，分别通过设置在机架上的支架与碟刹盘的两侧配合在一起。

本实用新型的绷膜机工装，电机可以驱动使翻转绷膜机主体的扩膜平面朝下，配合在壳体内自上而下的气流，从而可以使晶元表面的硅渣掉落下来。本工装实现了在扩膜过程中，将额外的硅渣进行清除功能，减少了因硅渣而造成的额外损伤，对于产品的后续工序等起到增加效率、减少残品率，从而节省成本的作用。

通过以下参照附图对本实用新型的示例性实施例的详细描述，本实用新型的其它特征及其优点将会变得清楚。

附图说明

构成说明书的一部分的附图描述了本实用新型的实施例，并且连同说明书一起用于解释本实用新型的原理。

图1是本实用新型绷膜机工装的外部结构示意图。

图2是本实用新型绷膜机工装的内部结构示意图。

图3是电机与绷膜机主体的配合结构示意图。

图4是本实用新型绷膜机工装的剖面示意图。