[实用新型]一种阵列基板及显示装置

权利要求书

1.一种阵列基板，其特征在于，包括：

第一衬底基板；

扫描线，设于所述第一衬底基板上；

栅绝缘层，设于所述扫描线上；

间隔层，设于所述栅绝缘层上；

数据线，设于所述间隔层上，与所述扫描线交叉布置；以及

保护层，设于所述间隔层和所述数据线上；

所述间隔层位于所述数据线与所述扫描线交错的重叠区域。

2.如权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，所述间隔层为半导体层。

3.如权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，所述间隔层为绝缘层。

4.如权利要求2所述的阵列基板，其特征在于，所述半导体层为无定形硅层、铟镓锌氧化物层或低温多晶硅层。

5.如权利要求1至4任一项所述的阵列基板，其特征在于，所述保护层和栅绝缘层为SiN_x层或SiO_x层或Al₂O₃层。

6.一种显示装置，其特征在于，包括相对设置的第一基板和第二基板，以及设置于所述第一基板和第二基板之间的液晶层，所述第一基板包括如权利要求1至5任一项所述的阵列基板，所述第二基板包括：

第二衬底基板；

色阻层，设于所述第二衬底基板上；

黑色矩阵，设于所述第二衬底基板上；以及

电极层，设于所述色阻层和所述黑色矩阵上。

7.如权利要求6所述的显示装置，其特征在于，所述间隔层的厚度d₅满足以下公式：

其中，ξ₁表示所述保护层和所述栅绝缘层的介电常数；ξ₂表示所述液晶层的介电常数；ξ₃表示所述间隔层的介电常数；S表示所述数据线与所述扫描线的正对交叠面积；k表示静电力常量；d₁表示未设置所述间隔层时，所述保护层与所述电极层的距离；d₂表示所述保护层的厚度；d₃表示所述栅绝缘层的厚度；d₄表示设置有所述间隔层时，所述保护层与所述电极层的距离。

8.如权利要求7所述的显示装置，其特征在于，所述间隔层的厚度d₅为所述保护层的厚度d₂的0.5倍至1倍。

9.如权利要求8所述的显示装置，其特征在于，所述间隔层的厚度d₅为所述保护层的厚度d₂的0.8倍。

10.一种显示装置，其特征在于，包括相对设置的彩膜基板和阵列基板，以及设置于所述彩膜基板和阵列基板之间的液晶层，所述阵列基板包括：

第一衬底基板；

扫描线，设于所述第一衬底基板上；

栅绝缘层，设于所述扫描线上；

半导体层，设于所述栅绝缘层上；

数据线，设于所述半导体层上，与所述扫描线交叉布置；以及

保护层，设于所述半导体层和所述数据线上；

所述彩膜基板包括：

第二衬底基板；

色阻层，设于所述第二衬底基板上；

黑色矩阵，设于所述第二衬底基板上；以及

电极层，设于所述色阻层和所述黑色矩阵上；

所述半导体层的厚度为所述保护层的厚度的0.8倍。