[实用新型]面蒸发源蒸镀装置

说明书

本实用新型涉及一种面蒸发源蒸镀装置。它是由可卷绕的柔性金属箔带作为蒸发料薄膜层的承载件，承载件上用波峰涂方法涂有蒸发料薄膜层，构成载有蒸发料膜层的面蒸发源；在此面蒸发源两端有一对加热电极，通过瞬间加热把承载件上蒸发料薄膜层瞬间全部均匀地蒸发到半成品基板上。从而大大提高了蒸发料的利用率。而且最后得到的蒸发薄膜层的材料成分、薄膜厚度、均匀度均由面蒸发源的蒸发料薄膜层来控制。使得此蒸镀装置不再需要蒸发速率和膜厚控制、多蒸发源控制，均匀性控制等复杂的机构，降低了设备成本、缩短了蒸镀节拍，提高了设备的利用率。

技术领域

本实用新型涉及用于制作有机发光二极管(OLED)、有机薄膜晶体管(TFT)、有机太阳电池、半导体器件、平板显示器件，及其他有机及无机器件制备时把有机及无机的蒸发料进行蒸发的面蒸发源蒸镀装置。

背景技术

真空蒸镀工艺已广泛的用于半导体元器件及平板显示器件的制作。特别如有机发光二极管(OLED)等方面已形成了一个很大的产业，在OLED的制备过程中主要的过程是真空蒸发，就是把有机蒸发料放在加热的坩埚中把蒸发料变成蒸汽后沉积在半成品基板上。由于随着平板显示面积的不断扩大，对大面积蒸发的均匀性和低成本的蒸发要求越来越高。而一般常用蒸发源有点蒸发源和线蒸发源。对于点蒸发源如中国专利01129122、200810210270.x、 003110977等，该种蒸发源由于蒸发时呈球面状因此在蒸发到平面基板时是不均匀的，中间厚周边薄。为了要得到均匀的薄膜则需要把蒸发源放在基板的边缘处而在基板旋转的情况下才能得到均匀的薄膜。这不仅增加了工艺的复杂性而且也造成了蒸发料的大量浪费。一般用这种方法的蒸发料的利用率只有百分之五左右。特别是对有机发光器件其有机发光的材料很昂贵的情况下它大大的增加了成本。为了提高蒸发料的利用率有很多专利如中国专利 200410040581.8、200710169464.5、201010601144.4、201020140696.5等提出了线蒸发源的方案。其方法是通过线蒸发源即把蒸发舟制成一长条形的蒸发舟形成一均匀的线状的蒸发源，通过该线蒸发源或基板的等速移动来实现均匀的蒸发。它的蒸发料利用率有了很大提高，可以达到20％左右的利用率。但是它的结构复杂为实现线上的均匀蒸发速率其控制的因素很多，设备成本就比较高。此外还有一些如改变点蒸发源的气流分布的方法的201010611085.9；多蒸发源来实现大面积蒸发的201010587010.1、201611137800.3；在凹槽阵列里填蒸发料蒸发的201610566599.4和平面蒸发源的201710643162.0等专利。但由于种种原因目前真正能实现批量生产的还是停留在点和线的蒸发源的状态，从而导致器件制造的材料损耗大、速度慢、工艺复杂、设备成本高、成品率底、总体成本还是高于液晶屏的制备。

实用新型内容

本实用新型的目的在于针对已有技术存在的缺陷，提供一种材料利用率高、蒸发的能耗小、工艺控制简单、蒸发速度快、容易形成流水线的面蒸发源蒸镀装置。

为达到上述目的，本实用新型采用下述技术方案：

一种面蒸发源蒸镀装置，包括接受蒸镀材料的半成品基板、带有匀布状镂空型孔的第一掩膜板，由两个卷有柔性金属箔带卷筒装有一条柔性金属箔带作为蒸发料薄膜层的承载件通过两个转向辊筒转到两个加热电极辊筒之间成一个平整的蒸发面，在该平面上或者是带有发热介质层的基板上用波峰涂的方法，或印刷、或转印、或喷涂、或流延、或蒸发、或溅射方法沉积一层蒸发料薄膜层组成的面蒸发源，面蒸发源平面的两端加有两个电极可以瞬间通电或者用其他如电磁、中频、高频、微波、热辊等方法来实现瞬间加热，瞬间把面蒸发源上的蒸发料薄膜层全部蒸发到在它上面的接受蒸发镀层的半成品基板上，形成蒸发薄膜层,两者之间可以有一个带有匀布镂空型孔的第一掩膜板，组成一个面蒸发源的蒸镀系统，它可以在高真空或惰性气体的低真空气氛下进行蒸发，并由多个蒸镀系统在一个真空系统内排列成一行，接受蒸发料的样品基板可按程序完成第一次蒸镀第一层蒸发薄膜层后的向前推进到下一个蒸镀系统进行下一层第二蒸发薄膜层的蒸镀，形成一个完整的蒸镀线，每个蒸镀系统边上有一个备用的面蒸发源波峰涂膜室在完成蒸发料的波峰涂膜后来更换边上已蒸发完蒸发料的面蒸发源。