[实用新型]一种紫外线曝光机用氮气幕

说明书

本实用新型提供一种紫外线曝光机用氮气幕，包括氮气幕壳体、底座、气道、出气孔、连接块和围挡边，氮气幕壳体呈圆弧形并固定安装在底座上，氮气幕壳体内设置有出气孔，氮气幕壳体内部设置有连接气源与出气孔的气道，氮气幕壳体外径圈上设置有连接块，氮气幕壳体靠近凸起一侧的外圆周上设置有围挡边，氮气幕壳体表面涂布有特氟龙，材质采用陶瓷。本实用新型通过氮气幕的机构完善了氮气对产品的保护，有效的防止了因为紫外线照射使空气中的氧气和水蒸气发生反应，造成紫外线的减弱从而导致的胶膜粘性过高产生的品质隐患。

技术领域

本实用新型主要涉及内存生产领域，尤其涉及一种紫外线曝光机用氮气幕。

背景技术

在紫外线曝光机上，原有的氮气保护系统由管道形式输送至工作腔体中，以紫外线照射开始和结束为工作时机，打开和关闭氮气，因此存在以下问题点：1.在氮气出气孔距离加工点较远，出气孔附近浓度较高，并且分布不均，无法形成对整个产品的工作区域整体覆盖；2.在紫外线照射刚开始的瞬间，无法保证产品表面的氧气和水蒸气被彻底排除，从而无法确保紫外线曝光的效果。

已公开中国实用新型专利，申请号CN201320729766.4，专利名称：用于光刻机曝光台的清洁装置，申请日：20131118，本实用新型涉及一种用于光刻机曝光台的清洁装置，包括一操作杆、与所述操作杆相连接的移动件，所述移动件靠近曝光台的底部具有一凹腔，所述凹腔通过一进气管与一氮气源或清洁干燥的空气源相连，通过一出气管与一抽真空装置相连。本实用新型采用一吹一吸的基本原理，通过氮气吹力把光刻机曝光台上的杂质颗粒吹起，然后通过另一端真空吸走颗粒，不但降低了操作者在狭小空间内的操作难度，降低了精密部件的损坏几率，而且提高了清洁效率，实现了高效安全的清洁目的。

实用新型内容

本实用新型提供一种紫外线曝光机用氮气幕，针对现有技术的上述缺陷，提供一种紫外线曝光机用氮气幕，包括氮气幕壳体1、底座2、气道3、出气孔4、连接块5和围挡边6，所述氮气幕壳体1呈圆弧形并固定安装在底座2上，所述氮气幕壳体1内设置有出气孔4，所述氮气幕壳体1内部设置有连接气源与出气孔4的气道3，所述氮气幕壳体1外径圈上设置有连接块5，所述氮气幕壳体1靠近凸起一侧的外圆周上设置有围挡边6，所述氮气幕壳体1表面涂布有特氟龙，材质采用陶瓷。

优选的，氮气幕壳体1通过螺栓固定安装在在底座2上，所述螺栓设置有多个与出气孔4对应，呈圆形阵列状分布。

优选的，出气孔4围绕氮气幕壳体1的圆心呈环形阵列状分布，每一列所述出气孔4设置有多个，对应的所述气道3以圆心为中心发散设置。

优选的，每一列所述出气孔4设置有四个，在所述氮气幕壳体1上设置有八列上述出气孔4。

优选的，氮气幕壳体1的凸起部分正对产品，所述产品下方设置有紫外线光源7，所述氮气幕壳体1和紫外线光源7均安装在工作腔体8内，所述工作腔体8内在产品入口内的上方设置有传感器9，所述传感器9与安装在氮气幕壳体1上的电磁阀连接。

优选的，连接块5上设置有螺栓孔10，所述螺栓孔10穿过螺栓与工作腔体8固定连接。

优选的，传感器9为光学传感器。

本实用新型的有益效果：通过氮气幕的机构完善了氮气对产品的保护，有效的防止了因为紫外线照射使空气中的氧气和水蒸气发生反应，造成紫外线的减弱从而导致的胶膜粘性过高产生的品质隐患。

附图说明

图1为本实用新型的结构图；

图2为本实用新型的左视图；

图3为本实用新型的气道结构图；

图4为本实用新型在工作腔体中的结构图；

图中，