[实用新型]一种基于双模式的太赫兹波高灵敏度成像装置

权利要求书

1.一种基于双模式的高灵敏度太赫兹波成像装置，其特征在于，

太赫兹波平面反射镜、第一太赫兹离轴抛物面镜、第二太赫兹离轴抛物面镜与第三太赫兹离轴抛物面镜依次设置在太赫兹波的出射光路上；

反射成像窗口及全反射成像棱镜的底面被置于第一太赫兹离轴抛物面镜和第二太赫兹离轴抛物面镜的水平焦平面上；

透过反射成像窗口的入射太赫兹波入射到样品，携带样品信息的太赫兹波再次经过反射成像窗口后被第二太赫兹波离轴抛物面镜聚焦并接收，获得反射成像；

太赫兹波经第一太赫兹离轴抛物面镜聚焦后入射到全反射成像棱镜的一个侧面上，太赫兹波在垂直全反射成像棱镜底面的方向产生倏逝波；

倏逝波垂直入射到样品，携带样品信息的太赫兹波在全反射成像棱镜的另一个侧面出射，出射后的太赫兹波被第二太赫兹离轴抛物面镜收集并接收，并通过太赫兹波平面反射镜反射，入射到太赫兹探测器，以获得样品的全反射成像结果。

2.根据权利要求1所述的一种基于双模式的高灵敏度太赫兹波成像装置，其特征在于，所述反射成像窗口为对太赫兹波高透的材料，所述全反射成像棱镜为对太赫兹高透的等腰三棱镜。

3.根据权利要求1所述的一种基于双模式的高灵敏度太赫兹波成像装置，其特征在于，所述太赫兹源为连续或脉冲太赫兹辐射源。

4.根据权利要求1所述的一种基于双模式的高灵敏度太赫兹波成像装置，其特征在于，太赫兹波平面反射镜、第一太赫兹反射离轴抛物面镜、第二太赫兹反射离轴抛物面镜和第三太赫兹反射离轴抛物面镜均镀太赫兹波段的宽带高反膜。