[实用新型]一种半导体的金刚石研磨盘及研磨装置有效

专利信息
申请号: 201821736650.2 申请日: 2018-10-25
公开(公告)号: CN208961749U 公开(公告)日: 2019-06-11
发明(设计)人: 陈国华;陈贇;王广稀 申请(专利权)人: 杭州澳凌制冷设备有限公司
主分类号: B24B37/08 分类号: B24B37/08;B24B37/16
代理公司: 北京沁优知识产权代理事务所(普通合伙) 11684 代理人: 陈李青
地址: 310000 浙江省杭州市*** 国省代码: 浙江;33
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摘要:
搜索关键词: 上研磨盘 下研磨盘 研磨 旋转齿轮 旋转盘 金刚石 研磨装置 第二轴 研磨盘 齿牙 半导体 本实用新型 夹紧操作 接触设置 均匀设置 相对设置 研磨设备 装置设置 出水孔 第一轴 孔设置 研磨片 中心处 受力 通孔 外周 中轴 匹配 贯穿
【权利要求书】:

1.一种半导体的金刚石研磨盘,包括上研磨盘(1)和下研磨盘(2),其特征在于:所述上研磨盘(1)和下研磨盘(2)为环状结构,所述上研磨盘(1)和下研磨盘(2)中心处分别设置有第一轴孔(3)和第二轴孔(4),贯穿所述第二轴孔(4)设置有旋转齿轮(5),所述上研磨盘(1)和下研磨盘(2)上均开设有若干个第一凹槽,若干个所述第一凹槽内设置有研磨片(7);

所述上研磨盘(1)上均匀设置有若干个出水孔(8),所述下研磨盘(2)上接触设置有若干旋转盘(9),所述旋转盘(9)的外周设有齿牙,所述齿牙的结构与所述旋转齿轮(5)相匹配,所述旋转盘(9)上设置有若干个产品通孔(10)。

2.根据权利要求1所述的一种半导体的金刚石研磨盘,其特征在于:所述研磨片(7)为金刚石材质。

3.根据权利要求1所述的一种半导体的金刚石研磨盘,其特征在于:所述出水孔(8)均匀分布在所述上研磨盘(1)上。

4.根据权利要求1所述的一种半导体的金刚石研磨盘,其特征在于:所述上研磨盘(1)和下研磨盘(2)尺寸相同。

5.根据权利要求1所述的一种半导体的金刚石研磨盘,其特征在于:所述研磨片(7)呈环形交错分布,分布在最外圈和最内圈的所述研磨片(7)直径小于分布在中部的所述研磨片(7)的直径。

6.根据权利要求1所述的一种半导体的金刚石研磨盘,其特征在于:所述产品通孔(10)为矩形结构,所述产品通孔(10)呈环形分布。

7.一种根据权利要求1-6中任意一项所述的一种半导体的金刚石研磨盘的研磨装置,其特征在于:所述下研磨盘(2)活动设置在研磨槽(13)内,所述研磨槽(13)和所述下研磨盘(2)间嵌入设置有齿轮圈(12),所述齿轮圈(12)上的齿轮与所述旋转盘(9)上的齿轮相配合,所述下研磨盘(2)相配合设置有旋转齿轮(5),所述旋转齿轮(5)上固定设置有电机(11);

所述上研磨盘(1)上方设置有若干个支撑架(15),所述支撑架(15)上方设置有支撑板(6),所述支撑板(6)与连接杆(14)固定连接。

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