[实用新型]一种定位装置有效

专利信息
申请号: 201821661969.3 申请日: 2018-10-12
公开(公告)号: CN209536533U 公开(公告)日: 2019-10-25
发明(设计)人: 周野;徐友俊;游润松 申请(专利权)人: 深圳市恒景顺科技有限公司
主分类号: B65H5/36 分类号: B65H5/36;B65H7/02;B65H9/00;B41F15/08;B41F15/14
代理公司: 广州嘉权专利商标事务所有限公司 44205 代理人: 唐致明
地址: 518000 广东省深圳市*** 国省代码: 广东;44
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摘要:
搜索关键词: 纠偏机构 本实用新型 待加工产品 定位装置 纠偏平台 检测模 可调整 高精度定位 机械手搬运 输送带输送 动力组件 传统的 驱动
【权利要求书】:

1.一种定位装置,其特征在于,包含:检测机构和纠偏机构,所述检测机构包括多个可调整相互位置的检测模组,所述纠偏机构位于所述检测机构的下部,所述纠偏机构包括纠偏平台,以及驱动所述纠偏平台运动的动力组件。

2.根据权利要求1所述的定位装置,其特征在于:所述检测机构包括至少五个检测模组,所述检测模组为CCD相机。

3.根据权利要求2所述的定位装置,其特征在于:所述检测模组通过螺杆和直线导轨连接在所述检测机构的安装平台上。

4.根据权利要求3所述的定位装置,其特征在于:所述检测机构上至少有一组处于相对设置的两检测模组之间的螺杆通过连接器连接为一体。

5.根据权利要求4所述的定位装置,其特征在于:所述检测机构的下部为纠偏平台,所述纠偏平台用于纠偏置于其上的待加工零部件。

6.根据权利要求5所述的定位装置,其特征在于:所述纠偏平台下部为驱动所述纠偏平台运动的动力组件。

7.根据权利要求6所述的定位装置,其特征在于:所述动力组件还包括UVW平台,通过所述UVW平台及升降Z轴自带真空吸附的方式与所述纠偏平台进行连接,驱动所述纠偏平台在XY平面内转动。

8.根据权利要求7所述的定位装置,其特征在于:所述UVW平台设有驱动气缸或驱动电缸,所述驱动气缸或驱动电缸用于顶起所述纠偏平台。

9.根据权利要求7所述的定位装置,其特征在于:所述UVW平台包括多个驱动电机,所述UVW平台上还设有平面光源。

10.根据权利要求8所述的定位装置,其特征在于:还包括位于所述检测机构与所述纠偏机构之间的清洁装置,所述清洁装置包括清洁辊、导轨、清洁动力件,所述位于清洁辊通过滑块与所述导轨连接,在所述清洁动力件的驱动下可在所述纠偏机构的上部做直线往复运动。

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