[实用新型]一种镀膜机有效

专利信息
申请号: 201821601439.X 申请日: 2018-09-29
公开(公告)号: CN209338644U 公开(公告)日: 2019-09-03
发明(设计)人: 吴可 申请(专利权)人: 北京铂阳顶荣光伏科技有限公司
主分类号: C23C14/24 分类号: C23C14/24;C23C14/52
代理公司: 北京同达信恒知识产权代理有限公司 11291 代理人: 黄志华
地址: 100176 北京市大兴区经*** 国省代码: 北京;11
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摘要:
搜索关键词: 镀膜材料 镀膜机 腔室 本实用新型 储料装置 镀膜过程 真空腔 镀膜 坩埚 下放 开腔 第二驱动装置 第一驱动装置 自动填料装置 生产周期 传送装置 机械损耗 装填 时长 污染 传送 存储 器材 驱动 补充
【说明书】:

实用新型公开了一种镀膜机,用以解决现有技术在镀膜过程中存在由于不断打开腔室补充镀膜材料而造成腔室污染和器材损耗的问题。本实用新型中,镀膜机的真空腔中设置有自动填料装置,在进行镀膜操作时,在进行镀膜操作时,储料装置在第一驱动装置的驱动下,按照设定的时间间隔将存储的镀膜材料一份一份的下放,然后传送装置在接取到储料装置下放的镀膜材料后,在自身的第二驱动装置作用下,将该镀膜材料传送并装填到坩埚中,如此在镀膜过程中,不再需要频繁打开真空腔为坩埚添加镀膜材料,减少了开腔的次数,因而可以减少腔室污染,降低镀膜机的机械损耗,同时增加了生产周期时长。

技术领域

本实用新型涉及光学镀膜装置技术领域,特别涉及一种镀膜机。

背景技术

目前,光学薄膜制作通常以物理蒸镀法为主,该方法为将镀膜材料由固态转化为气态或离子态,气态或离子态的镀膜材料由蒸发源穿越空间,抵达基板表面,材料抵达基板表面后,将沉积而逐渐形成薄膜,从而完成基板上镜片的镀膜。

在现有的光学镀膜工艺中,常采用真空镀膜机进行镀膜,镀膜机在镀膜过程中高压电子束流要求轰击在坩埚穴位内的蒸镀材料上,然而现有的镀膜机中的坩埚的容量都比较小,在镀膜过程中,需要不断地打开镀膜机的真空腔补充镀膜材料。如此,增加了镀膜时长,同时由于在镀膜过程中不断的打开真空腔,还可能造成腔室污染,同时在打开和关闭腔室的过程中会造成机器损耗。

综上所述,目前在镀膜过程中存在由于不断打开腔室补充镀膜材料而造成腔室污染和器材损耗的问题。

实用新型内容

本实用新型提供一种镀膜机,用以解决现有技术中在镀膜过程中存在由于不断打开腔室补充镀膜材料而造成腔室污染和器材损耗的问题。

本实用新型实施例提供一种镀膜机,该装置包括:真空腔、设置于所述真空腔内的镀膜机自动填料装置以及设置于所述真空腔内的坩埚,所述镀膜机自动填料装置包括:

安装于所述真空腔内、且具有下料工位的储料装置,所述储料装置具有多个储料单元和用于控制所述储料单元开关的控制机构,每一个所述储料单元用于存储一份对应于坩埚的镀膜材料,且所述储料装置可相对于所述传送装置动作以使每一个所述储料单元可移动至所述下料工位,且所述控制机构用于控制处于下料工位的储料单元处于打开状态以将镀膜材料下放;

安装于所述真空腔内、且可相对于所述坩埚以及储料装置动作的传送装置,所述传送装置动作时用于将处于下料工位的储料单元下放的镀膜材料传送给所述坩埚;

用于驱动储料装置动作的第一驱动装置;

用于驱动传送装置动作的第二驱动装置。

上述镀膜机的真空腔中,设置有自动填料装置,镀膜机自动填料装置包括安装于所述真空腔内、且具有下料工位的储料装置,安装于所述真空腔内、且可相对于所述坩埚以及储料装置动作的传送装置,用于驱动储料装置动作的第一驱动装置以及用于驱动传送装置动作的第二驱动装置。如此,在进行镀膜操作时,当坩埚内的度膜材料将要耗尽时,真空腔中的储料装置在第一驱动装置的驱动下,由控制设备控制着将储料装置中的一个存储单元移动至下料工位,并将其内的镀膜材料下放,随后由真空腔内传送装置将该镀膜材料传送并装填到坩埚中,如此在镀膜过程中,不再需要频繁打开真空腔为坩埚添加镀膜材料,减少了开腔的次数,因而可以减少腔室污染,降低镀膜机的机械损耗,同时增加了生产周期时长。

在一种可能的实施方式中,所述储料装置包括一旋转轴和一主体构件,所述主体构件可绕所述旋转轴的轴心线旋转地安装于所述真空腔内,且所述储料单元绕所述旋转轴的轴心线均匀分布于所述主体构件;所述第一驱动装置与所述旋转轴传动连接。

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