[实用新型]自动化石墨舟卡点装点器有效
申请号: | 201821499583.7 | 申请日: | 2018-09-13 |
公开(公告)号: | CN208965035U | 公开(公告)日: | 2019-06-11 |
发明(设计)人: | 孙红彬;段波;陶龙忠;杨灼坚;李静;沙泉;唐福云;卢佩良;李宁;高顺;王存亮;高东坡 | 申请(专利权)人: | 江苏润阳悦达光伏科技有限公司 |
主分类号: | C23C16/458 | 分类号: | C23C16/458;H01L31/18 |
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地址: | 224000 江苏省*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 卡点 工位 压点 储料料斗 新卡 自动化 滑道 石墨舟 过程无需人工 应用前景广阔 本实用新型 工作效率高 太阳能电池 震动机构 点压 滑落 省力 省时 下端 储存 缓解 制造 | ||
本实用新型属于太阳能电池制造领域,尤其涉及一种自动化石墨舟卡点装点器,包括供储存新卡点的储料料斗、设置在所述储料料斗一侧的震动机构、设置于所述储料料斗下端的卡点滑道、设置在所述卡点滑道下端用于将新卡点移送至压点工位的换点机构、设置于所述换点机构一侧用于将所述压点工位中的卡点压至装点工位的压点机构,因而使用时储料料斗中的新卡点可以经其下端的卡点滑道滑落至换点机构,换点机构将其接收的卡点移送至压点工位,压点机构将压点工位中的新卡点压点至装点工位,实现自动化装点,操作简便,装点质量高,不会对卡点造成损坏,自动化程度高,装点过程无需人工手动参与,缓解了操作人员劳动强度,省时省力,工作效率高,应用前景广阔。
技术领域
本发明属于太阳能电池制造领域,尤其涉及一种自动化石墨舟卡点装点器。
背景技术
随着太阳能电池的迅猛发展,越来越多的太阳能电池进入民用领域。在太阳能电池的生产过程中,PECVD(PlasmaEnhancedChemicalVaporDeposition,等离子体增强化学气相沉积法)镀膜工艺是生产流程中的重要环节,起到举足轻重的作用。PECVD是借助微波或射频等使含有薄膜组成原子的气体电离,在局部形成等离子体,而等离子体化学活性很强,很容易发生反应,在基片上沉积出所期望的薄膜。硅片进行其表面镀膜工序时,需要将未镀膜的硅片插入PECVD 真空镀膜设备的载片器上。目前,载片器通常采用石墨舟,具体操作过程是:将硅片插入石墨舟并通过石墨舟卡点定位于其上,然后,将载有硅片的石墨舟放置在PECVD 真空镀膜设备中,采用PECVD 工艺对硅片进行镀膜。为了固定硅片于石墨舟中,石墨舟的石墨舟片上设有用于固定硅片的卡点,由于硅片在插取过程中会对卡点有一定的磨损,需要定期对卡点进行更换,以便保证石墨舟的良好状态,进而保证硅片的镀膜质量。
传统石墨舟卡点的更换方法操作步骤复杂且繁琐、同时对装配人员技能要求比较高,如果技能操作不到位会导致更换过程中石墨舟片和石墨舟卡点损坏或装配不到位,传统的石墨舟卡点更换操作方法是:石墨舟卡点需要使用到一台简易手动压机,同时压机两边需用泡沫板或橡胶皮垫垫得和手动压机平台一样的高度,操作人员坐在压机面前将石墨舟片平放置于手动压机平台上面,然后依次将石墨舟的24个卡点用手动压机卸下,石墨舟卡点卸下之后操作人员将要更换新的卡点放置于对应卡孔上面,小心翼翼的用左手扶好右手往下转动压机,手使的力度要把握好,如果使用的力度太大会把石墨舟和卡点压坏,如果使用的力度太小就压不到位,压完一张石墨舟片的卡点后,继续下一张石墨舟片卡点的更换,一个石墨舟有27片组成,通常一天需要更换好几个这样的石墨舟卡点,人员操作复杂繁琐,常常因为来不及更换石墨舟卡点,而导致生产进度缓慢,一般情况下因为赶进度而损坏石墨舟片或卡点压不到位的情况非常多,导致硅片制作过程中损坏或脱落情况,影响产品质量。
发明内容
本发明的目的是解决上述现有技术的不足,提供一种自动化程度高、操作简便、装点质量高、不会对卡点造成损坏、工作效率高的自动化石墨舟卡点装点器。
本发明解决上述现有技术的不足所采用的技术方案是:
一种自动化石墨舟卡点装点器,用于将新卡点装点至石墨舟卡点更换机的装点工位,其特征在于,包括:
储料料斗,供储存新卡点;
震动机构,设置在所述储料料斗一侧,驱动所述储料料斗中的新卡点下落;
卡点滑道,设置于所述储料料斗下端,所述储料料斗中的新卡点经所述卡点滑道滑落至换点机构;
换点机构,设置在所述卡点滑道下端,用于将新卡点移送至压点工位;
压点机构,设置于所述换点机构一侧,用于将所述压点工位中的卡点压至装点工位。
优选的,本发明中所述换点机构包括换点滑块和换点滑块气缸,所述换点滑块气缸的活塞杆连接所述换点滑块,所述换点滑块上设有换点滑块卡点孔,所述储料料斗中的新卡点经所述卡点滑道滑落至所述换点滑块卡点孔。
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C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
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