[实用新型]一种基于谷胱甘肽复合膜栅极金电极的L-胱氨酸传感器有效
申请号: | 201821387690.0 | 申请日: | 2018-08-28 |
公开(公告)号: | CN208860790U | 公开(公告)日: | 2019-05-14 |
发明(设计)人: | 曹忠;朱钦;杨佳;肖忠良;刘陈;李丹;张玲;冯泽猛;印遇龙 | 申请(专利权)人: | 长沙理工大学 |
主分类号: | G01N27/26 | 分类号: | G01N27/26;G01N27/327 |
代理公司: | 北京天奇智新知识产权代理有限公司 11340 | 代理人: | 刘佳芳 |
地址: | 410114 湖南省*** | 国省代码: | 湖南;43 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 谷胱甘肽 金电极 复合膜 场效应晶体管 传感器 邻苯二甲酸二丁酯 本实用新型 氧化石墨烯 栅极延长 胱氨酸 复合膜修饰 金电极表面 效应晶体管 放大作用 灵敏检测 原位信号 制备过程 复合材料 金膜层 潜在的 自组装 修饰 组装 响应 应用 | ||
1.一种基于谷胱甘肽复合膜栅极金电极的L-胱氨酸传感器,所述传感器包括场效应晶体管,所述场效应晶体管上设有栅极延长的金电极,其特征在于,所述栅极延长的金电极中,所述栅极部分延长0.1—500mm的距离,金电极的金膜层(10)表面组装有谷胱甘肽复合膜(12);所述谷胱甘肽复合膜为邻苯二甲酸二丁酯、氧化石墨烯和谷胱甘肽组成的复合膜。
2.如权利要求1所述的传感器,其特征在于,所述场效应晶体管包括Si基底层(1)和设于Si基底层(1)上的多晶硅栅极(7);所述Si基底层(1)上植入p阱(2)和N型衬底(3),所述p阱(2)处设有源电极(4)和漏电极(5),被植入p阱(2)和N型衬底(3)并构建有源电极(4)和漏电极(5)的Si基底层(1)上设有二氧化硅层(6);所述多晶硅栅极(7)的基底层上依次镀上铝铜合金层(8)、铬钯合金层(9)和金膜层(10);在多晶硅栅极(7)的基底层和二氧化硅层(6)上还设有氮化硅层(11)。
3.如权利要求2所述的传感器,其特征在于,所述铝铜合金层(8)的厚度为20—600nm,铬钯合金层(9)的厚度为20—600nm,金膜层(10)的厚度为20—1000nm。
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