[实用新型]一种膜层结构、阵列基板及显示装置

权利要求书

1.一种膜层结构，其特征在于，包括膜层基体，所述膜层基体的边沿具有用于调节膜层结构应力分布的曲线边。

2.根据权利要求1所述的膜层结构，其特征在于，所述膜层基体具有多个用于调节膜层结构应力分布的应力调节孔；其中，

多个所述应力调节孔均匀的分布在所述膜层基体上；或，

多个所述应力调节孔非均匀的分布在所述膜层基体上；或，

所述膜层基体所具有的应力调节孔的密度沿着所述膜层基体的中心到边缘的方向逐渐减小；或，

相邻两个所述应力调节孔之间的间距大于相邻两个所述应力调节孔中至少一个应力调节孔的直径。

3.根据权利要求1或2所述的膜层结构，其特征在于，所述膜层基体包括至少一个曲边单元，多个所述应力调节孔包括与至少一个曲边单元一一对应的至少一个第一应力调节孔和与至少一个曲边单元一一对应的至少一个第二应力调节孔；每个所述曲边单元包括连接在一起的第一弧边子单元和第二弧边子单元，所述第一弧边子单元内具有用于调节膜层结构应力分布的第一应力调节孔，所述第二弧边子单元内具有用于调节膜层结构应力分布的第二应力调节孔。

4.根据权利要求3所述的膜层结构，其特征在于，每个所述曲边单元所包括的第一弧边子单元至少具有第一大曲率弧边和第一小曲率弧边，每个所述曲边单元所包括的第二弧边子单元至少具有第二大曲率弧边和第二小曲率弧边；每个所述曲边单元中第一弧边子单元所包括的第一大曲率弧边与所述第二弧边子单元所包括的第二小曲率弧边连接，每个所述曲边单元中第一弧边子单元所包括的第一小曲率弧边与第二弧边子单元所包括的第二大曲率弧边连接。

5.根据权利要求4所述的膜层结构，其特征在于，相邻两个所述曲边单元中其中一个曲边单元中的第一弧边子单元所包括的第一大曲率弧边与另一个曲边单元中第二弧边子单元所包括的第二小曲率弧边连接；其中一个曲边单元中第一弧边子单元所包括的第一小曲率弧边与另一个曲边单元中第二弧边子单元所包括的第二大曲率弧边连接。

6.根据权利要求4所述的膜层结构，其特征在于，每个所述曲边单元中第一大曲率弧边和所述第二大曲率弧边的曲率相同，每个所述曲边单元中第一小曲率弧边的曲率和所述第二小曲率弧边的曲率相同，所述第一小曲率弧边的弧半径大于所述第一应力调节孔的直径。

7.根据权利要求6所述的膜层结构，其特征在于，所述第一大曲率弧边的弧半径和所述第一小曲率弧边的弧半径的比例为(1.8-3.6):(4.5-6.5)，所述第一小曲率弧边的弧半径和所述第一应力调节孔的直径的比例为(4.8-6.5)：(2.5-4.5)，所述第一大曲率弧边到所述第一应力调节孔的几何中心的最短距离与所述第一应力调节孔的直径的比例为(10-12)：(2.5-4.5)。

8.一种阵列基板，其特征在于，包括至少一个权利要求1～7任一项所述的膜层结构。

9.根据权利要求8所述的阵列基板，其特征在于，至少一个所述膜层结构中的一个膜层结构为源漏极。

10.一种显示装置，其特征在于，包括权利要求8或9所述的阵列基板。