[实用新型]一种蒸镀装置

说明书

本实用新型提供了一种蒸镀装置，包括：分散器、至少一个坩埚和与所述至少一个坩埚配合的至少一个加热器，所述坩埚用于盛放蒸镀材料，所述加热器套在所述坩埚外面，用于对所述蒸镀材料进行加热，所述坩埚的内部与所述分散器的内腔连通，所述分散器上设置有与内腔连通的喷嘴。该方案通过为每一个坩埚独立配置加热器来加热蒸镀材料，并通过分散器对加热成气态的蒸镀材料进行分散处理，以完成蒸镀过程，有效解决了蒸镀材料分布不均的问题，同时可防止材料泄露，避免因温度不均造成的材料裂解变性，并且，在多个坩埚的情况下提升了蒸镀材料填充量，有利于延长蒸镀周期。

技术领域

本实用新型涉及设备领域，具体涉及一种蒸镀装置。

背景技术

蒸镀，是指在真空环境中，将待成膜的物质置于真空中进行蒸发或升华，使之在工件或基片表面析出的过程。通过蒸镀能在金属、半导体、绝缘体甚至塑料、纸张、织物表面上沉积金属、半导体、绝缘体、不同成分比的合金、化合物及部分有机聚合物等的薄膜，其适用范围非常广泛。

如图1A所示，为常见的一种蒸镀线源a，配合使用图1B所示的加热器b进行加热形成蒸镀装置。但是，该种蒸镀装置由于是对蒸镀线源a整体加热，即加热器b套在蒸镀线源a的外部，通过加热器b的加热丝b1对蒸镀线源a进行加热，这种方式在蒸镀时，由于容易加热不均、蒸镀线源a方向均一性差，容易出现蒸镀材料分布不均、以及材料变性的情况。同时由于坩埚密封口较大，在蒸镀时容易出现材料泄露的现象，材料泄露会造成腔室污染，材料浪费等不良问题。

实用新型内容

因此，本实用新型要解决的技术问题在于现有技术中蒸镀装置容易造成蒸镀材料分布不均、材料容易泄露。

为了实现上述目的，本实用新型提供了一种蒸镀装置，包括：分散器、至少一个坩埚和与所述至少一个坩埚配合的至少一个加热器，所述坩埚用于盛放蒸镀材料，所述加热器套在所述坩埚外面，用于对所述蒸镀材料进行加热，所述坩埚的内部与所述分散器的内腔连通，所述分散器上设置有与内腔连通的喷嘴。

优选地，所述坩埚通过传输部件连接至所述分散器的内腔。

优选地，所述坩埚开口端设置有外螺纹，所述传输部件一端设置有与所述外螺纹配合使用的内螺纹。

优选地，所述坩埚为三个，所述加热器为三个。

优选地，三个所述坩埚以均匀间隔连接至所述分散器。

优选地，所述坩埚为圆筒状点源坩埚。

优选地，所述加热器为与所述坩埚配合使用的圆筒状。

优选地，所述喷嘴为多个。

优选地，所述喷嘴均匀分布。

优选地，所述分散器整体呈长条形。

本实用新型的技术方案具有以下优点：

本实用新型提供的蒸镀装置，通过为每一个坩埚独立配置加热器来加热蒸镀材料，避免了加热不均的现象，并通过分散器对加热成气态的蒸镀材料进行分散处理，使得蒸镀材料可以通过分散器上的喷嘴均匀的喷出，以完成蒸镀过程，与现有技术相比，有效解决了蒸镀材料分布不均的问题，改善了蒸镀均一性，同时可防止材料泄露，避免因温度不均造成的材料裂解变性，并且，在多个坩埚的情况下提升了蒸镀材料填充量，有利于延长蒸镀周期。

附图说明

为了更清楚地说明本实用新型具体实施方式或现有技术中的技术方案，下面将对具体实施方式或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图是本实用新型的一些实施方式，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。

图1A为现有技术中蒸镀线源的一个示意图；

图1B为现有技术中加热器的一个示意图；