[实用新型]一种敷设装置有效
| 申请号： | 201821054648.7 | 申请日： | 2018-07-04 |
| 公开（公告）号： | CN208596695U | 公开（公告）日： | 2019-03-12 |
| 发明（设计）人： | 李雪恒;张大鹏 | 申请（专利权）人： | 汉能移动能源控股集团有限公司 |
| 主分类号： | H01L31/18 | 分类号： | H01L31/18;H01L21/683;H01L21/677 |
| 代理公司： | 北京品源专利代理有限公司 11332 | 代理人： | 胡彬 |
| 地址： | 100107 北京市朝阳*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 敷设 敷设装置 伸缩机构 吸附 治具 基板 本实用新型 吸力 固定技术领域 位置不变 相对基板 偏移 良率 贴合 吸引 | ||
1.一种敷设装置，用于将待敷设件(1)敷设于基板(2)上，其特征在于，所述敷设装置包括：
机架(4)，
伸缩机构，所述伸缩机构设置于所述机架(4)上；
多个吸附治具(3)，所述吸附治具设置在所述伸缩机构的上方并与所述伸缩机构连接，所述吸附治具被构造为与所述基板的一面贴合，并对所述基板的另一面的所述待敷设件产生吸力。
2.根据权利要求1所述的敷设装置，其特征在于，所述机架包括传送件(5)，所述伸缩机构带动所述吸附治具(3)沿指定方向运动。
3.根据权利要求2所述的敷设装置，其特征在于，所述指定方向与所述传送件(5)所在的平面设置指定夹角。
4.根据权利要求3所述的敷设装置，其特征在于，所述指定夹角为90°。
5.根据权利要求2所述的敷设装置，其特征在于，所述吸附治具(3)设置为波浪形。
6.根据权利要求5所述的敷设装置，其特征在于，所述吸附治具(3)沿所述传送件(5)的传送方向延伸设置。
7.根据权利要求6所述的敷设装置，其特征在于，所述吸附治具(3)沿垂直于所述传送件(5)的传送方向间隔设置。
8.根据权利要求1所述的敷设装置，其特征在于，所述伸缩机构(6)为伸缩杆。
9.根据权利要求8所述的敷设装置，其特征在于，所述吸附治具(3)上设置有安装孔，所述伸缩杆伸入所述安装孔内与所述吸附治具连接。
10.根据权利要求1所述的敷设装置，其特征在于，还包括夹取装置(7)，所述夹取装置(7)位于所述机架(4)的一侧，所述夹取装置(7)包括驱动件(71)和吸附组件(72)，所述驱动件(71)被设置为控制所述吸附组件(72)移动，所述吸附组件(72)被设置为吸附所述待敷设件(1)。
11.根据权利要求10所述的敷设装置，其特征在于，所述吸附组件(72)包括底座(721)和设置在所述底座(721)上的至少一个吸盘(722)，所述吸盘(722)和所述底座(721)之间连接有伸缩部。
12.根据权利要求10所述的敷设装置，其特征在于，所述驱动件(71)为机械手臂，所述机械手臂能够驱动所述吸附组件(72)移动。
13.根据权利要求1-12任一项所述的敷设装置，其特征在于，所述吸力为磁力。
14.根据权利要求13所述的敷设装置，其特征在于，所述吸附治具(3)由电磁铁制成。
15.根据权利要求13所述的敷设装置，其特征在于，所述吸附治具(3)由永磁铁制成，所述敷设装置还包括消磁装置，所述消磁装置能够对所述吸附治具(3)消磁。
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H01L 半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射，或微粒辐射敏感的，并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的，或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件；专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的，例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的，一个或多个电光源，如场致发光光源在结构上相连的，并与其电光源在电气上或光学上相耦合的
