[实用新型]掩膜板及蒸镀设备

说明书

本实用新型涉及一种掩膜板，包括：框架；第一掩膜板，设置于所述框架上，所述第一掩膜板上设置有用于限定显示区域的形状的开口；第二掩膜板，设置于所述第一掩膜板的第一侧，所述第二掩膜板上设有多个像素开口；还包括设置于所述第一掩膜板的第二侧的支撑条，所述第一侧与所述第二侧沿所述第一掩膜板的厚度方向相对设置。本实用新型还涉及了一种蒸镀设备。支撑条的设置提升掩膜板与待蒸镀基板的贴合延展性，降低因掩膜板贴合状态不好造成的显示面板边缘混色不良。

技术领域

本实用新型涉及液晶产品制作技术领域，尤其涉及一种掩膜板及蒸镀设备。

背景技术

AMOLED显示的实现方式有LTPS(低温多晶硅)背板+精细金属掩膜(FMM Mask)方式，和Oxide(氧化物)背板+WOLED(白光有机发光二极管)+彩膜的方式，前者主要应用于小尺寸面板，对应手机和移动应用；后者主要应用于大尺寸面板，对应Monitor(监控器)和电视等应用。现在LTPS背板+FMM Mask的方式已经初步成熟，实现了量产。

MFA(Mask Frame Assembly，掩模集成框架)目前是蒸镀技术最常用的技术方案之一，MFA的制作原理是将FMM单条sheet通过张网制作的工艺将其焊接在Frame框架上，针对目前存在小尺寸和异性尺寸，如圆形、齐刘海、倒角形状等非常规方案设计形状。采用CoverOpen Mask(遮挡式开口掩膜板)作为异性制作的基本构件之一。即Cover Open Mask作为AMOLED显示屏幕遮挡工具，蒸镀方式通过其遮挡后蒸镀得到形状的需求屏幕。

目前的MFA在蒸镀腔室进行蒸镀时，由于Cover Open mask材质为Invar(因瓦合金)，在与磁隔板在一定间距接触时，会受到磁力吸附作用，但由于cover open mask整体受到重力的下垂量、磁隔板均一性、以及精细金属掩膜条的设计特性等因素影响，会致使Cover Open Mask与FMM贴合后FMM会存在掩膜板与待蒸镀基板贴合不良，进而会引发不良的产生，如边缘混色、条状混色、以及混色的产生。

实用新型内容

为了解决上述技术问题，本实用新型提供一种掩膜板及蒸镀设备，解决蒸镀时掩膜板与待蒸镀基板贴合不良的问题。

为了达到上述目的，本实用新型采用的技术方案是：一种掩膜板，包括：

框架；

第一掩膜板，设置于所述框架上，所述第一掩膜板上设置有用于限定显示区域的形状的开口；

第二掩膜板，设置于所述第一掩膜板的第一侧，所述第二掩膜板上设有多个像素开口；

还包括设置于所述第一掩膜板的第二侧的支撑条，所述第一侧与所述第二侧沿所述第一掩膜板的厚度方向相对设置。

进一步的，所述第二掩膜板为由多个掩膜条组成的精细金属掩膜板，所述支撑条与所述掩膜条相交设置。

进一步的，所述支撑条与所述第一掩膜板连接的一侧间隔设置有多个凸起，所述凸起支撑连接于所述第一掩膜板上。

进一步的，每个所述掩膜条的多个所述像素开口划分为多个第一区域，每个所述第一区域与一所述开口相对应。

进一步的，每个所述凸起在所述第二掩膜板上的投影位于相应的相邻两个所述第一区域之间的区域内。

进一步的，所述凸起在所述第一掩膜板的厚度方向上的厚度为50-100um。

进一步的，所述支撑条与所述掩膜条相垂直设置。

进一步的，所述第二掩模板上的所述第一区域为矩形。

进一步的，所述第一掩膜板上的开口为圆形，所述开口在所述第二掩模板上的正投影落于所述第一区域内。

本实用新型提供一种蒸镀设备，包括上述的掩膜板。