[实用新型]一种自动光刻机

说明书

本实用新型公开了一种自动光刻机，它属于光刻领域，包括台架，台架上设有步进转动的转盘，转盘四周均布有若干工装台，工装台上固定有若干工装；台架后方设有曝光机，曝光机设置在转盘旋转停止的工装上方；台架一侧设有支架，支架末端伸入到台架前方，支架上设有显微放大镜和显示屏，显微放大镜和显示屏设置在台架前方转盘旋转停止的工装上方；工装包括底座，底座与工装台连接，底座内部设为中空结构且与外侧通过进气阀门和出气阀门连通，底座上方中心位置设有若干气孔与中空结构连通，若干气孔周围设有若干条密封槽，密封槽内设有密封圈，硅片设置在若干所述气孔上方；转盘中心设有真空发生装置，真空发生装置与工装上的进气阀门和出气阀门连通。

技术领域

本实用新型涉及光刻领域，具体涉及一种自动光刻机。

背景技术

目前芯片图形在硅片表面光刻胶上的曝光转印是其中最重要的工序之一，目前，光刻过程是人工将硅片固定在工装上，然后将此工装和硅片放入光刻机中曝光，随着一步步改进，目前已经形成了自动输送装置，工人只需将硅片在工装上放置或者是从工装上拆装下来便可。

然而上述装置在实际生产过程中，等待曝光以及工装转移过程是比较浪费时间，大约占据了整个生产节拍一半的时间。

有鉴于上述现有技术存在的问题，本实用新型结合相关领域多年的设计及使用经验，辅以过强的专业知识，设计制造了一种自动光刻机，来克服上述缺陷。

实用新型内容

对于现有技术中所存在的问题，本实用新型提供的一种自动光刻机，能够降低硅片在工装上放置或者是从工装上拆装下来的时间，同时降低转移以及曝光等待时间，大大提高生产效率。

为了实现上述目的，本实用新型采用的技术方案如下：一种自动光刻机，包括台架，所述台架上设有可步进转动的转盘，所述转盘四周均布有若干工装台，所述工装台上固定有若干工装；

所述台架后方设有曝光机，所述曝光机设置在所述转盘旋转停止的工装上方；

所述台架一侧设有支架，所述支架末端伸入到台架前方，所述支架上设有显微放大镜和显示屏，所述显微放大镜和显示屏设置在台架前方所述转盘旋转停止的工装上方；

所述工装包括底座，所述底座与工装台连接，所述底座内部设为中空结构且与外侧通过进气阀门和出气阀门连通，所述底座上方中心位置设有若干气孔与所述中空结构连通，若干所述气孔周围设有若干条密封槽，所述密封槽内设有密封圈，硅片设置在若干所述气孔上方；

所述转盘中心设有真空发生装置，所述真空发生装置与所述工装上的进气阀门和出气阀门连通。

作为优选的技术方案，所述硅片的直径大于密封圈的直径。

该实用新型的有益之处在于：

(1)本实用新型将硅片放置在工装上，利用真空通过气孔将硅片吸附在工装上，对硅片进行固定，通过上述方式固定，直接将硅片放置在上面即可保证位置固定，不需要操作其他零部件对其定位固定，提高了固定硅片的效率。

(2)本实用新型利用密封圈对硅片进行垫取，不仅避免了刚性接触对硅片的损伤，而且还能够保证其吸附在工装上的吸附力，保证固定的稳定性。

(3)本实用新型利用转盘旋转的生产方式，节省了曝光等待时间，大大提高了生产效率。

附图说明

图1为一种自动光刻机的结构示意图；

图2为一种自动光刻机工装的结构示意图。

图中：1-连接孔、2-底座、3-密封槽、4-气孔、5-进气阀门、6-出气阀门、7-台架、8-转盘、9-显示屏、10-显微放大镜、11-曝光机、12-支架、13-控制台、14-工装台、15-真空发生装置。

具体实施方式