[实用新型]一种掩膜板框架

权利要求书

1.一种掩膜板框架，其特征在于，包括依次首尾相连以形成封闭环形结构的多个边框，每个所述边框的顶面形成掩膜板焊接面，且每一个所述边框的底面形成有多个凸出所述底面的摩擦凸起。

2.根据权利要求1所述的掩膜板框架，其特征在于，至少一个所述边框具有开口位于底面的多个凹槽，每相邻的两个所述凹槽之间形成一个所述摩擦凸起。

3.根据权利要求1所述的掩膜板框架，其特征在于，每一个所述边框的底面形成有沿所述边框外边缘指向所述边框中心方向排列的多排摩擦凸起。

4.根据权利要求3所述的掩膜板框架，其特征在于，每一个所述边框具有的摩擦凸起在所述边框的底面呈阵列分布。

5.根据权利要求1所述的掩膜板框架，其特征在于，沿与所述边框的底面垂直的方向，每一个所述摩擦凸起的高度为5μm至10μm。

6.根据权利要求1所述的掩膜板框架，其特征在于，每相邻两个所述摩擦凸起之间的间距为1mm至5mm。

7.根据权利要求1所述的掩膜板框架，其特征在于，所述摩擦凸起倾斜设置于所述底面且所述摩擦凸起与所述边框的底面形成的夹角中朝向所述封闭环形结构中心方向的夹角为锐角。

8.根据权利要求1所述的掩膜板框架，其特征在于，每一个所述边框背离所述封闭环形结构中心的侧边具有阶梯状结构，所述阶梯状结构的阶梯面背离所述边框的底面、且与所述边框的顶面平行。

9.根据权利要求8所述的掩膜板框架，其特征在于，所述边框的底面与所述掩膜板焊接面之间的最大距离为20mm至30mm，其中所述阶梯面与所述掩膜板焊接面之间的距离为10mm至20mm。

10.根据权利要求1所述的掩膜板框架，其特征在于，所述边框包括多个定位机构。