[实用新型]掩膜板有效

专利信息
申请号: 201820714443.0 申请日: 2018-05-14
公开(公告)号: CN208266252U 公开(公告)日: 2018-12-21
发明(设计)人: 郭校生;高峰;甘帅燕 申请(专利权)人: 昆山国显光电有限公司
主分类号: C23C14/04 分类号: C23C14/04;C23C14/24
代理公司: 广州华进联合专利商标代理有限公司 44224 代理人: 唐清凯
地址: 215300 江苏省*** 国省代码: 江苏;32
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 掩膜板 蒸镀 加强结构 过渡区 切割区 虚设 蒸镀面 褶皱 受力不均 相对设置 应力集中 玻璃面 受力 掩膜 环绕
【权利要求书】:

1.一种掩膜板,其特征在于,包括掩膜板主体和加强结构,所述掩膜板主体包括相对设置的玻璃面与蒸镀面;所述蒸镀面上包括:

蒸镀区;

虚设区,位于所述蒸镀区一侧;

切割区,位于所述虚设区与所述蒸镀区之间并围绕所述虚设区设置;以及

过渡区,围绕所述蒸镀区设置,且所述虚设区与所述切割区均位于所述过渡区靠近蒸镀区一侧;

所述加强结构设置于所述掩膜板主体的蒸镀面上,且位于所述过渡区内,所述加强结构远离所述过渡区的一面高于所述蒸镀面所在的平面。

2.根据权利要求1所述的掩膜板,其特征在于,所述加强结构为多个,多个所述加强结构间隔设置于所述过渡区内。

3.根据权利要求1或2所述的掩膜板,其特征在于,所述加强结构与所述掩膜板主体一体成型设置。

4.根据权利要求1所述的掩膜板,其特征在于,所述加强结构的厚度自靠近所述的蒸镀区一侧向远离所述蒸镀区方向单调增大。

5.根据权利要求1所述的掩膜板,其特征在于,所述加强结构的最大厚度与所述掩膜板主体的厚度的比值范围为0.5-1。

6.根据权利要求1所述的掩膜板,其特征在于,所述过渡区上开设有过渡孔,所述过渡孔自所述加强结构远离所述玻璃面一侧向所述玻璃面延伸。

7.根据权利要求6所述的掩膜板,其特征在于,所述过渡孔的深度小于所述加强结构与所述过渡区内所述掩膜板主体的厚度之和。

8.根据权利要求7所述的掩膜板,其特征在于,所述过渡孔为多个,所述过渡孔的深度自靠近所述蒸镀区一侧向远离所述蒸镀区一侧依次单调减小。

9.根据权利要求1所述的掩膜板,其特征在于,所述蒸镀区中设有多个贯穿所述玻璃面与所述蒸镀面的第一蒸镀孔;所述虚设区中沿所述掩膜板主体的厚度方向设有多个第二蒸镀孔,每个所述第二蒸镀孔的深度小于或等于所述虚设区内所述掩膜板主体的厚度。

10.根据权利要求1所述的掩膜板,其特征在于,所述切割区中沿所述掩膜板主体的厚度方向开设有多个第三蒸镀孔,所述第三蒸镀孔的深度小于所述切割区内所述掩膜板主体的厚度。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于昆山国显光电有限公司,未经昆山国显光电有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201820714443.0/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top