[实用新型]一种内部可清洗的研磨头结构有效

专利信息
申请号: 201820562210.3 申请日: 2018-04-19
公开(公告)号: CN208147615U 公开(公告)日: 2018-11-27
发明(设计)人: 叶维坚;张弢;蒋德念 申请(专利权)人: 上海华力集成电路制造有限公司
主分类号: B24B37/30 分类号: B24B37/30;B24B55/06
代理公司: 上海申新律师事务所 31272 代理人: 俞涤炯
地址: 201315 上海市浦东新区中国(上*** 国省代码: 上海;31
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摘要:
搜索关键词: 研磨头 清洗装置 研磨 清洗 可清洗 隔膜 本实用新型 研磨头主轴 供气装置 供水装置 内置通道 研磨设备 主体顶部 轮廓线 容纳槽 水气 划伤 内置 残留
【说明书】:

本实用新型提供了一种内部可清洗的研磨头结构,属于研磨设备清洗的技术领域。一种内部可清洗的研磨头结构包括底部嵌设有研磨头隔膜的研磨头主体,设置于研磨头主体顶部的研磨头主轴,同时,在研磨头主体和研磨头主轴中内置有辅助清洗装置,在研磨头主体的下方设置有研磨清洗装置;本实用新型通过将辅助清洗装置的内置通道沿研磨头主体的容纳槽和研磨头隔膜形成的间隙的轮廓线布置,实现对研磨头隔膜和研磨头主体之间间隙的彻底清洗,同时将辅助清洗装置连接在供水装置和供气装置上实现水气切换,不仅提高了适应性,还使清洗更彻底,并且结合研磨清洗装置能实现对研磨头内外部的彻底清洗,防止残留的研磨衍生物对下次研磨造成划伤,提高产品质量。

技术领域

本实用新型涉及研磨设备清洗的技术领域,具体是涉及一种内部可清洗的研磨头结构。

背景技术

在各行各业中,很多产品的生产制造都需要进行研磨工序操作。研磨工序的好坏决定了产品的品质,因此,提高研磨的效果是目前研究的重点。

传统的,对于晶圆研磨的研磨设备包括研磨头和处于研磨头底部的研磨清洗装置,研磨头包括连接有研磨头主轴的研磨头主体,并于研磨头主体内设置有研磨头隔膜,且研磨头隔膜嵌设于研磨头主体内。在研磨头主轴转动时,带动研磨头隔膜旋转,从而实现对处于研磨头下方的晶圆的研磨,并且在一次研磨工序完成后,处于研磨头底部的研磨清洗装置会向研磨头喷水,实现对研磨头的清洗,避免研磨衍生物对下次研磨造成刮伤,提高研磨质量。但是,由于研磨头隔膜是嵌设于研磨头主体内,因此,直接通过研磨清洗装置喷水清洗的方式只能清洗研磨头隔膜的下表面,无法对研磨头隔膜和研磨头主体的间隙中的研磨衍生物进行清洗,造成部分研磨衍生物清洗不彻底的问题,存在对下次研磨的晶圆造成划伤的风险。

发明内容

针对现有技术中存在的上述问题,现旨在提供一种内部可清洗的研磨头结构,以在研磨头主体和研磨头主轴中内置辅助清洗装置,且辅助清洗装置的喷口均处于研磨头隔膜和研磨头主体的间隙处,保证了在清洗时,不仅能利用研磨清洗装置实现对研磨头隔膜的下表面的清洗,同时还能通过辅助清洗装置对研磨头隔膜和研磨头主体之间的间隙进行清洗,彻底清除研磨衍生物,避免对下次研磨造成刮伤的风险,提高产品品质。

具体技术方案如下:

一种内部可清洗的研磨头结构,具有这样的特征,包括:研磨头主体、研磨头隔膜、研磨头主轴、研磨清洗装置以及辅助清洗装置,研磨头主体的底部开设有容纳槽,容纳槽内嵌设有研磨头隔膜,在研磨头主体和研磨头隔膜的下方设置有研磨清洗装置,同时,在研磨头主体的顶部设置有一研磨头主轴,并在研磨头主轴和研磨头主体中设置有内置的辅助清洗装置,并且辅助清洗装置在研磨头主体内沿容纳槽和研磨头隔膜形成的间隙的轮廓线布置。

上述的一种内部可清洗的研磨头结构,其中,辅助清洗装置为内置通道,辅助清洗装置在研磨头主轴中为沿研磨头主轴的轴向布置的第一内置通道,辅助清洗装置在研磨头主体中为第二内置通道。

上述的一种内部可清洗的研磨头结构,其中,第二内置通道分为清洗通道和连接通道,清洗通道为首尾相接的闭式弧形结构,连接通道一端与清洗通道连通,连接通道的另一端连接研磨头主轴中的第一内置通道。

上述的一种内部可清洗的研磨头结构,其中,清洗通道的弧形方向沿容纳槽和研磨头隔膜形成的间隙的轮廓线布置,同时,在清洗通道上开设有若干喷口,喷口均与清洗通道连通。

上述的一种内部可清洗的研磨头结构,其中,辅助清洗装置连接有供水装置和供气装置。

上述的一种内部可清洗的研磨头结构,其中,供水装置和供气装置通过控制阀门均连接在研磨头主轴中的内置通道上。

上述的一种内部可清洗的研磨头结构,其中,研磨清洗装置的喷射范围覆盖整个研磨头主体的底部端面。

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