[实用新型]全口径环形抛光中抛光盘形状误差的检测装置

说明书

本实用新型提供一种检测精度较高的全口径环形抛光中抛光盘形状误差的检测装置。全口径环形抛光中抛光盘形状误差的检测装置，在直线导轨上设置有溜板，在所述溜板上设置有L形辅助检测支架、第一激光位移传感器和第二激光位移传感器，在所述直线导轨的下方设置有水槽，在所述L形辅助检测支架的下板上设置有元件孔，在所述元件孔内设置有辅助检测平板。本实用新型检测抛光盘的形状误差时，采用水面作为参考对象，可以避免直线导轨本身的直线度误差对检测精度的影响，不会引入系统误差，具有极高的检测精度；本实用新型采用L形辅助检测支架和辅助检测平面贴合抛光盘表面以起到平滑的作用，从而改善了抛光盘宏观轮廓的检测精度和稳定性。

技术领域

本实用新型涉及光学加工领域，尤其涉及一种全口径环形抛光中抛光盘形状误差的检测装置。

背景技术

全口径环形抛光广泛应用于大口径平面光学元件的加工，加工的元件具有较低的中频误差。大型环抛机一般采用大理石基盘，通过在其表面浇制沥青作为抛光盘。通常，环抛机的抛光盘的中心位置配置有中心柱，同时抛光盘的侧边位置配置有3个立柱，均通过横梁与中心柱连接，形成3个工位。其中一个工位用于放置修正盘，另外两个工位用于放置工件盘。环抛技术一直存在的一个难题是元件低频面形误差的高效收敛。元件的面形误差主要取决于抛光过程的运动参量以及元件和抛光盘接触界面的压力分布。抛光运动参量包括各盘转速、元件偏心距等，近年来机床运动控制水平的提升已较好地解决了元件面形精度控制在运动参数方面的制约问题。抛光压力分布的均匀性，特别是由于抛光盘表面不平引起的抛光压力分布不均已经成为元件面形精度提升的瓶颈。长期以来，环形抛光缺乏有效的抛光盘形状误差检测和监控方法。

CN103978430A和CN 105203065A分别提出了一种抛光盘形状误差的检测方法，首先采用标准镜和平尺标定直线导轨误差，然后从抛光盘形状误差的检测数据中去除直线导轨误差。然而采用这些方法时用于检测直线导轨误差的标准镜和平尺本身存在一定的误差，并且首先标定导轨误差然后检测抛光盘的过程比较繁琐和复杂。

实用新型内容

本实用新型所要解决的技术问题是提供一种检测精度较高的全口径环形抛光中抛光盘形状误差的检测装置。

本实用新型解决技术问题所采用的技术方案是：全口径环形抛光中抛光盘形状误差的检测装置，在直线导轨上设置有溜板，在所述溜板上设置有L形辅助检测支架、第一激光位移传感器和第二激光位移传感器，在所述直线导轨的下方设置有水槽，在所述L形辅助检测支架的下板上设置有元件孔，在所述元件孔内设置有辅助检测平板。

进一步的，所述L形辅助检测支架限定辅助检测平板在竖直方向上自由浮动。

进一步的，所述第一激光位移传感器的检测点指向水槽内的水面，所述第二激光位移传感器的检测点指向辅助检测平板的上表面。

进一步的，所述水槽设置在抛光盘上。

进一步的，所述辅助检测平板的下表面与抛光盘上表面贴合，所述辅助检测平板的尺寸大于抛光盘上表面沟槽的最大尺寸。

进一步的，所述第一激光位移传感器和第二激光位移传感器通过磁力表座固定在溜板上。

进一步的，所述第一激光位移传感器和第二激光位移传感器检测的距离数据通过两根数据线输送至PC端进行记录和处理。

进一步的，所述水槽的形状为长方形，其长度方向与直线导轨对齐，所述水槽的长度不小于直线导轨的移动行程。

进一步的，所述溜板通过伺服电机和丝杠进行精确定位和移动速度控制。

进一步的，所述辅助检测平板的上表面和下表面的平面度以及等厚精度优于1um。