[实用新型]用于浸没式光刻机的浸没头检测装置

说明书

本实用新型公开了一种用于浸没式光刻机的浸没头检测装置，包括分析单元、图像采集单元、支撑单元，支撑单元包括底座、若干支脚、立柱和三个移动滑轨，支脚安装在底座下部，立柱安装在底座上，横向移动滑轨安装在立柱顶部且在水平面内移动，纵向移动滑轨安装在横向移动滑轨上且纵向移动滑轨与横向移动滑轨在水平面内的移动方向相垂直，垂直移动滑轨一端安装在纵向移动滑轨上且垂直移动滑轨与纵向移动滑轨和横向移动滑轨的移动方向都相垂直，图像采集单元固定在垂直移动滑轨上。本实用新型采用可调式的支撑单元安装镜头，这样可以调整镜头位置，同时便于检测装置的安放，避免因人为因素损坏光刻机的浸没头，从而保证机台的正常运行，提高工艺效率。

技术领域

本实用新型属于半导体集成电路制造领域，具体涉及一种用于浸没式光刻机的浸没头检测装置。

背景技术

随着集成电路产品技术要求的提升，光刻技术也不断地提高分辨率以制作更加微细的器件尺寸，目前较为常用的就是浸没式光刻技术。

所谓的浸没式光刻技术是指在曝光镜头与硅片之间充满水或更高折射的浸没液体以取代传统干式光刻技术中对应的空气。由于水的折射率比空气大，所以浸没式光刻技术就是利用光通过液体介质后光源波长缩短来提高分辨率，其缩短的倍率即为液体介质的折射率。

浸没式光刻系统包括物镜、浸没头(Immersion Hood)、承片台，硅片放置在承片台上且位于物镜的下方，浸没头设置在物镜附近，物镜、浸没头和硅片之间形成一空间，水或其它浸没液体填充所述空间。通常情况下，浸没头围绕物镜分布，其主要用于维持光刻机的浸没液体流场。

在浸没式光刻技术越来越先进的情况下，光刻机中各零件的性能要求也越来越高，其中最主要的就是浸没头。目前，大多采用固定支架式检测装置对浸没头进行实时监控，该检测装置主要包括图像采集单元(即镜头)、分析单元(通常为计算机)和固定支架，其中图像采集单元与分析单元之间通过传输线连接。使用时将装有镜头的固定支架推入到机台下方并使镜头对准待测的浸没头。然而，在实际工艺过程中，放置检测装置时经常由于人为因素造成浸没头损坏，进而影响光刻工艺的正常运行时间。

实用新型内容

本实用新型要解决的技术问题是提供一种用于浸没式光刻机的浸没头检测装置，可以减少浸没头损坏而影响机台正常运行时间的意外情况发生。

为解决上述技术问题，本实用新型提供的用于浸没式光刻机的浸没头检测装置，包括分析单元、图像采集单元、支撑单元，所述图像采集单元安装在所述支撑单元上，且通过传输线与所述分析单元相连接，所述支撑单元包括底座、若干支脚、立柱和横向移动滑轨、纵向移动滑轨和垂直移动滑轨，所述支脚安装在底座下部，所述立柱安装在底座上，所述横向移动滑轨安装在立柱的顶部且在水平面内移动，所述纵向移动滑轨安装在横向移动滑轨上，且纵向移动滑轨在水平面内的移动方向与横向移动滑轨的移动方向相垂直，所述垂直移动滑轨的一端安装在纵向移动滑轨上，且垂直移动滑轨的移动方向与纵向移动滑轨和横向移动滑轨的移动方向都相垂直，所述图像采集单元固定安装在垂直移动滑轨上。

在上述装置中，所述横向移动滑轨、纵向移动滑轨和垂直移动滑轨分别通过锁紧螺栓进行定位。

在上述装置中，所述立柱为伸缩式支柱。进一步的，所述伸缩式支柱通过弹簧卡销锁紧定位。

此外较佳的，所述底座上安装有水平仪。

在上述装置中，所述立柱位于底座的中心。

在上述装置中，所述支脚包括水平调整脚座和万向轮。进一步的，所述支脚包括两个水平调整脚座和两个万向轮。

在上述装置中，所述图像采集单元为摄像头。

本实用新型的检测装置采用可调整式的支撑单元安装图像采集单元的镜头，这样可以根据光刻工艺中机台的实际情况来调整检测装置中镜头的位置，同时便于检测装置的安放，避免因人为因素损坏光刻机的浸没头，从而保证机台的正常运行，提高工艺效率。