[实用新型]碱性蚀刻液循环再生系统

说明书

本实用新型公开一种碱性蚀刻液循环再生系统，用于PCB板的碱性蚀刻制造。该碱性蚀刻液循环再生系统包括蚀刻生产线、蚀刻液收集装置、电解装置及再生装置。其中，蚀刻生产线设有蚀刻液流出口和再生子液流入口；蚀刻液收集装置设有第一进口和第一出口；电解装置包括槽体和盖设槽体槽口的盖板，槽体内设有电极，槽体的下端设有第二进口，槽体的上端设有第二出口，电解装置设有集气口；再生装置包括再生液收集槽、水槽和调配槽，再生液收集槽和水槽分别连通调配槽；其中，蚀刻液流出口连通第一进口，第一出口连通第二进口，第二出口连通再生液收集槽，集气口连通水槽，调配槽连通再生子液流入口。本实用新型技术方案简化操作，实现零废水排放。

技术领域

本实用新型涉及环保技术领域，特别涉及一种碱性蚀刻液循环换再生系统。

背景技术

印制电路板(Printed Circuit Board)，简称PCB板，制造过程一般采用碱性蚀刻工序。首先，需要在线路板的元器件图形部位电镀抗蚀合金，或者涂敷有机化合物的抗蚀剂。然后使用氯化铜溶液将线路板上未通过抗蚀保护的部分的铜进行溶解，进行蚀刻。蚀刻完毕后，去除抗蚀层。在此过程中，氯化铜和单质铜在碱性蚀刻液的条件下发生反应产生亚铜离子。随着蚀刻过程的进行，蚀刻液中的氯化铜浓度不断降低，氯化铜与铜的反应速率逐渐减慢，蚀刻速率降低。同时亚铜离子的浓度不断升高，由于亚铜离子的不稳定性，在碱性环境下生成氢氧化亚铜沉淀。导致蚀刻液中的离子浓度达不到蚀刻要求而需要重新更换新的蚀刻液。然而更换产生的蚀刻废液含有大量的铜离子、氯离子、铵离子，属危险化学废物，直接排放不仅造成资源浪费，而且会对环境造成严重污染。

目前处理上述蚀刻废液的方法主要采用萃取-电积工艺，即利用铜萃取剂对铜进行萃取，将萃取所得的铜再通过反萃取和电积获得高纯度的阴极铜，萃取铜后的剩余溶液通过加入试剂调整溶液性能，重复用于蚀刻过程。这样的操作，一方面由于铜萃取剂在萃取过程中会带有铵离子，会降低铜萃取剂的循环使用次数，需用水对铜萃取剂进行水洗后再进行反萃取，此过程中会产生大量废液。另一方面，操作过程繁琐。

实用新型内容

本实用新型的主要目的是提供一种碱性蚀刻液循环再生系统，旨在简化操作，实现零废水排放。

为实现上述目的，本实用新型提出的碱性蚀刻液循环再生系统，用于PCB板的碱性蚀刻制造，包括：蚀刻生产线，设有蚀刻液流出口和再生子液流入口；蚀刻液收集装置，设有第一进口和第一出口；电解装置，包括槽体和盖设所述槽体槽口的盖板，所述槽体内设有电极，所述槽体的下端设有第二进口，所述槽体的上端设有第二出口，所述电解装置设有集气口；再生装置，包括再生液收集槽、水槽和调配槽，所述再生液收集槽和所述水槽分别连通所述调配槽；其中，所述蚀刻液流出口与所述第一进口连通，所述第一出口与所述第二进口连通，所述第二出口与所述再生液收集槽连通，所述集气口与所述水槽连通，所述再生液流入口与所述调配槽连通。

可选地，所述电解装置的槽体包括第一部分和第二部分，所述第一部分的顶部和底部对应连通所述第二部分的顶部和底部，所述第二进口和所述第二出口设于所述第一部分，所述集气口设于所述第二部分，所述第二部分内设有所述电极。

可选地，所述再生装置还包括再生子液槽，所述再生子液槽连通所述调配槽和所述再生液流入口。

可选地，所述第一部分和所述第二部分之间设有水泵，所述水泵的进口端连通所述第一部分的底部，所述水泵的出口端连通所述第二部分的底部。

可选地，所述蚀刻液收集装置和所述电解装置之间设有连接泵，所述连接泵的进口端连通所述蚀刻液收集装置，所述连接泵的出口端连接连通所述电解装置。

可选地，所述蚀刻液收集装置还包括流量计，所述流量计设于所述第一出口。

可选地，所述第一部分还设有冷却装置。

可选地，所述冷却装置为钛冷却管。