[实用新型]一种简易式微流道制作装置有效
申请号: | 201820136477.6 | 申请日: | 2018-01-26 |
公开(公告)号: | CN207913805U | 公开(公告)日: | 2018-09-28 |
发明(设计)人: | 潘尧 | 申请(专利权)人: | 苏州锐材半导体有限公司 |
主分类号: | B01L3/00 | 分类号: | B01L3/00 |
代理公司: | 苏州国卓知识产权代理有限公司 32331 | 代理人: | 陆晓鹰 |
地址: | 215000 江苏省苏州*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 连接基座 上端 制作装置 滑槽 刻蚀 本实用新型 光刻装置 横向基座 刻蚀装置 伺服控制 微流道 流道 简易 液压式伸缩装置 纵向移动装置 伺服机械手 光刻设备 滑动连接 压制设备 硅片 光刻 硅基 竖向 压板 压制 制作 加工 | ||
本实用新型公开了一种简易式微流道制作装置,包括刻蚀装置及光刻装置,以及平台,刻蚀装置和光刻装置分别安装于第一、第二伺服机械手的上端,所述平台上端竖向设有第一、第二连接基座,第一连接基座内侧设有第一滑槽,第二连接基座内侧设有第二滑槽,第一、第二滑槽之间滑动连接有一横向基座,横向基座底部设有一压板;第一、第二连接基座外侧及上端设有C型架,该C型架底部设有一基于伺服控制的液压式伸缩装置,平台上端设有一基于伺服控制的纵向移动装置;本实用新型采用刻蚀和光刻设备以及压制设备将硅片进行刻蚀、光刻以及压制分离的方式,即可得到复杂的微流道模板,该微流道制作装置加工成本明显低于硅基刻蚀方法,且制作简单,精度高。
技术领域
本实用新型涉及一流道制作装置,尤其涉及一种简易式微流道制作装置,属于微流控设备技术领域。
背景技术
在微流控技术日趋发展的过程中,复杂微流道一直是科研与生产的焦点,在目前复杂流道的生产中,一直是通过硅的刻蚀来做模板,再经翻膜产生所需流道,但是高成本的加工方法一直阻碍着微流控的研究与生产,同时还缺乏相应的专业的加工设备。这都是阻碍复杂微流道加工的瓶颈。
发明内容
本发明所需解决的技术问题是:提供一种简易式微流道制作装置,该微流道制作装置加工成本明显低于硅基刻蚀方法,且制作简单,精度高。
为解决上述技术问题,本实用新型提供一种简易式微流道制作装置,包括一刻蚀装置,一光刻装置,以及一平台,所述平台两侧设有和地基连接的螺栓孔,所述刻蚀装置和光刻装置分别安装于基于伺服控制的第一伺服机械手、第二伺服机械手的上端,所述第一伺服机械手、第二伺服机械手底部安装于平台上端两侧,所述平台上端竖向设有第一连接基座和第二连接基座,所述第一连接基座内侧设有第一滑槽,所述第二连接基座内侧设有第二滑槽,所述第一滑槽、第二滑槽之间滑动连接有一横向基座,所述横向基座底部设有一压板;所述第一连接基座、第二连接基座外侧及上端设有一C型架,该C型架底部设有一基于伺服控制的液压式伸缩装置,所述液压式伸缩装置底部和横向基座的上端相连接;同时,所述平台上端还设有一基于伺服控制的纵向移动装置。
作为本实用新型之优选,所述纵向移动装置包括第一导轨、第二导轨,所述第一导轨、第二导轨固接于平台上端,并且所述第一导轨、第二导轨位于第一连接基座和第二连接基座之间;所述第一导轨和第二导轨上滑动连接有一可沿着第一导轨、第二导轨纵向滑动的基于伺服控制的电动滑动装置,所述电动滑动装置上端设有一平面基座,该平面基座上端对应压板。
本实用新型采用刻蚀和光刻设备以及压制设备将硅片进行刻蚀、光刻以及压制分离的方式,即可得到复杂的微流道模板,该微流道制作装置加工成本明显低于硅基刻蚀方法,且制作简单,精度高。
附图说明
图1所述的是本实用新型的外观结构图;
其中,1、刻蚀装置;2、光刻装置;3、平台;4、螺栓孔;5、第一伺服机械手;6、第二伺服机械手;7、第一连接基座;8、第二连接基座;9、第一滑槽;10、第二滑槽;11、横向基座;12、压板;13、C型架;14、液压式伸缩装置;15、第一导轨;16、第二导轨;17、电动滑动装置;18、平面基座。
具体实施方式
下面结合附图和具体实施方式对本实用新型作进一步详细地说明。
由图1可知,一种简易式微流道制作装置,包括一刻蚀装置1,一光刻装置2,以及一平台3。
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