[发明专利]液晶显示装置及其形成方法在审
申请号: | 201811610172.5 | 申请日: | 2018-12-27 |
公开(公告)号: | CN111381403A | 公开(公告)日: | 2020-07-07 |
发明(设计)人: | 陆晨欢;王达兴;徐广军;范刚洪 | 申请(专利权)人: | 上海仪电显示材料有限公司 |
主分类号: | G02F1/1339 | 分类号: | G02F1/1339;G02F1/1335;G02F1/1333 |
代理公司: | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人: | 徐文欣;吴敏 |
地址: | 201108 上海*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 液晶 显示装置 及其 形成 方法 | ||
1.一种液晶显示装置的形成方法,其特征在于,包括:
提供第一基板;
在所述第一基板表面形成矩阵层,所述矩阵层内具有沿相互垂直的第一方向和第二方向呈阵列排列的若干个第一开口,所述第一开口底部暴露出第一基板;
形成平行于第一方向的若干光阻层,各光阻层位于所述第一开口内以及沿第一方向排列的若干矩阵层表面;
去除矩阵层上的部分所述光阻层,在所述光阻层内形成第二开口,所述第二开口沿第一方向的尺寸小于沿第二方向的尺寸;
在所述第二开口上形成间隔柱。
2.如权利要求1所述的液晶显示装置的形成方法,其特征在于,所述第二开口沿第一方向上的尺寸与第二开口沿第二方向上的尺寸的比为:1:2~1:4。
3.如权利要求1所述的液晶显示装置的形成方法,其特征在于,沿第一方向上,所述间隔柱的尺寸大于第二开口的尺寸,且沿第二方向上,所述间隔柱的尺寸小于第二开口的尺寸。
4.如权利要求1所述的液晶显示装置的形成方法,其特征在于,所述第二开口的形成方法包括:形成第一掩膜层,所述第一掩膜层包括半透光区;以所述第一掩膜层为掩膜,对所述光阻层曝光显影,去除所述半透光区光阻层形成第二开口。
5.如权利要求1所述的液晶显示装置的形成方法,其特征在于,形成所述第二开口之后,形成所述间隔柱之前,还包括:在所述光阻层表面以及第二开口内形成平坦化层,所述平坦化层充满第二开口;所述间隔柱位于第二开口内平坦化层的表面。
6.如权利要求5所述的液晶显示装置的形成方法,其特征在于,所述间隔柱顶部表面到平坦化层顶部表面的最大尺寸为:2微米~5微米。
7.如权利要求1所述的液晶显示装置的形成方法,其特征在于,所述液晶显示装置的形成方法还包括:提供第二基板;使间隔柱位于第一基板和第二基板之间,在第一基板与第二基板之间形成空腔;在所述空腔内形成液晶。
8.一种液晶显示装置,其特征在于,包括:
第一基板;
位于所述第一基板表面的矩阵层,所述矩阵层内具有沿相互垂直的第一方向和第二方向呈矩阵排列的若干个第一开口,所述第一开口底部暴露出第一基板;
位于所述第一开口内以及沿第一方向排列的若干矩阵层表面的光阻层,所述光阻层平行于第一方向;
位于矩阵层上所述光阻层内的第二开口,所述第二开口沿第一方向的尺寸小于沿第二方向的尺寸;
位于所述第二开口上的间隔柱。
9.如权利要求8所述的液晶显示装置,其特征在于,所述第二开口沿第一方向上的尺寸与第二开口沿第二方向上的尺寸的比为:1:2~1:4。
10.如权利要求8所述的液晶显示装置,其特征在于,所述间隔柱沿第一方向上的尺寸大于第二开口的尺寸,且所述间隔柱沿第二方向上的尺寸小于第二开口的尺寸。
11.如权利要求8所述的液晶显示装置,其特征在于,所述液晶显示装置还包括:位于第二开口内的平坦化层,所述平坦化层充满第二开口;所述间隔柱位于第二开口内平坦化层的顶部表面。
12.如权利要求11所述的液晶显示装置,其特征在于,所述间隔柱顶部表面到平坦化层顶部表面的最大尺寸为:2微米~5微米。
13.如权利要求8所述的液晶显示装置,其特征在于,所述液晶显示装置还包括:第二基板,所述间隔柱位于第一基板和第二基板之间,所述第一基板与第二基板之间具有空腔;位于所述空腔内的液晶。
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