[发明专利]液晶显示装置及其形成方法在审

专利信息
申请号: 201811610172.5 申请日: 2018-12-27
公开(公告)号: CN111381403A 公开(公告)日: 2020-07-07
发明(设计)人: 陆晨欢;王达兴;徐广军;范刚洪 申请(专利权)人: 上海仪电显示材料有限公司
主分类号: G02F1/1339 分类号: G02F1/1339;G02F1/1335;G02F1/1333
代理公司: 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 代理人: 徐文欣;吴敏
地址: 201108 上海*** 国省代码: 上海;31
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 液晶 显示装置 及其 形成 方法
【权利要求书】:

1.一种液晶显示装置的形成方法,其特征在于,包括:

提供第一基板;

在所述第一基板表面形成矩阵层,所述矩阵层内具有沿相互垂直的第一方向和第二方向呈阵列排列的若干个第一开口,所述第一开口底部暴露出第一基板;

形成平行于第一方向的若干光阻层,各光阻层位于所述第一开口内以及沿第一方向排列的若干矩阵层表面;

去除矩阵层上的部分所述光阻层,在所述光阻层内形成第二开口,所述第二开口沿第一方向的尺寸小于沿第二方向的尺寸;

在所述第二开口上形成间隔柱。

2.如权利要求1所述的液晶显示装置的形成方法,其特征在于,所述第二开口沿第一方向上的尺寸与第二开口沿第二方向上的尺寸的比为:1:2~1:4。

3.如权利要求1所述的液晶显示装置的形成方法,其特征在于,沿第一方向上,所述间隔柱的尺寸大于第二开口的尺寸,且沿第二方向上,所述间隔柱的尺寸小于第二开口的尺寸。

4.如权利要求1所述的液晶显示装置的形成方法,其特征在于,所述第二开口的形成方法包括:形成第一掩膜层,所述第一掩膜层包括半透光区;以所述第一掩膜层为掩膜,对所述光阻层曝光显影,去除所述半透光区光阻层形成第二开口。

5.如权利要求1所述的液晶显示装置的形成方法,其特征在于,形成所述第二开口之后,形成所述间隔柱之前,还包括:在所述光阻层表面以及第二开口内形成平坦化层,所述平坦化层充满第二开口;所述间隔柱位于第二开口内平坦化层的表面。

6.如权利要求5所述的液晶显示装置的形成方法,其特征在于,所述间隔柱顶部表面到平坦化层顶部表面的最大尺寸为:2微米~5微米。

7.如权利要求1所述的液晶显示装置的形成方法,其特征在于,所述液晶显示装置的形成方法还包括:提供第二基板;使间隔柱位于第一基板和第二基板之间,在第一基板与第二基板之间形成空腔;在所述空腔内形成液晶。

8.一种液晶显示装置,其特征在于,包括:

第一基板;

位于所述第一基板表面的矩阵层,所述矩阵层内具有沿相互垂直的第一方向和第二方向呈矩阵排列的若干个第一开口,所述第一开口底部暴露出第一基板;

位于所述第一开口内以及沿第一方向排列的若干矩阵层表面的光阻层,所述光阻层平行于第一方向;

位于矩阵层上所述光阻层内的第二开口,所述第二开口沿第一方向的尺寸小于沿第二方向的尺寸;

位于所述第二开口上的间隔柱。

9.如权利要求8所述的液晶显示装置,其特征在于,所述第二开口沿第一方向上的尺寸与第二开口沿第二方向上的尺寸的比为:1:2~1:4。

10.如权利要求8所述的液晶显示装置,其特征在于,所述间隔柱沿第一方向上的尺寸大于第二开口的尺寸,且所述间隔柱沿第二方向上的尺寸小于第二开口的尺寸。

11.如权利要求8所述的液晶显示装置,其特征在于,所述液晶显示装置还包括:位于第二开口内的平坦化层,所述平坦化层充满第二开口;所述间隔柱位于第二开口内平坦化层的顶部表面。

12.如权利要求11所述的液晶显示装置,其特征在于,所述间隔柱顶部表面到平坦化层顶部表面的最大尺寸为:2微米~5微米。

13.如权利要求8所述的液晶显示装置,其特征在于,所述液晶显示装置还包括:第二基板,所述间隔柱位于第一基板和第二基板之间,所述第一基板与第二基板之间具有空腔;位于所述空腔内的液晶。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于上海仪电显示材料有限公司,未经上海仪电显示材料有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201811610172.5/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top