[发明专利]10代线掩膜版箱子清洗系统及清洗方法

权利要求书

1.10代线掩膜版箱子清洗系统，其特征在于，包括清洗装置，所述清洗装置包括清洗槽(2)和腔体(1)，所述腔体(1)环设在清洗槽(2)外侧，所述腔体(1)上设置有竖直缺口，在缺口处配合设置有软帘(3)，所述腔体(1)的侧壁设置有进液口(11)，所述清洗槽(2)的底部设置有排液口(21)，所述腔体(1)的高度高于清洗槽(2)的高度。

2.根据权利要求1所述的10代线掩膜版箱子清洗系统，其特征在于，所述清洗槽(2)为矩形槽，所述腔体(1)为包括3个侧面的U形结构，在U形结构的2个侧壁之间设置软帘(3)，所述腔体(1)的3个侧面紧贴清洗槽(2)的3个侧壁设置。

3.根据权利要求2所述的10代线掩膜版箱子清洗系统，其特征在于，所述清洗槽(2)的长和宽均为2.8-3.2米，所述清洗槽(2)的高度为40-50厘米，所述腔体(1)的高度为1.8-2.1米。

4.根据权利要求1所述的10代线掩膜版箱子清洗系统，其特征在于，所述清洗槽(2)的外壁设置有固定板(6)，所述腔体(1)的底部可拆卸式嵌入固定板(6)的上端面。

5.根据权利要求1所述的10代线掩膜版箱子清洗系统，其特征在于，所述腔体(1)和清洗槽(2)之间设置有硅胶垫(5)。

6.根据权利要求1所述的10代线掩膜版箱子清洗系统，其特征在于，所述腔体(1)的缺口上部设置有横杆(4)，所述软帘(3)的上端设置有套筒(31)，所述套筒(31)套设在横杆(4)上。

7.根据权利要求1所述的10代线掩膜版箱子清洗系统，其特征在于，还包括排污机构，所述排污机构包括设置在地面上的排污槽(8)，所述清洗装置设置在排污槽(8)上方。

8.根据权利要求7所述的10代线掩膜版箱子清洗系统，其特征在于，所述排污槽(8)为弧形槽。

9.根据权利要求7所述的10代线掩膜版箱子清洗系统，其特征在于，所述排污机构包括设置在地面上的限位结构(7)，所述限位结构(7)为U形结构，设置在清洗装置外侧，每个清洗装置外侧对称设置有2个限位结构(7)。

10.基于权利要求1-9任一项所述10代线掩膜版箱子清洗系统的清洗方法，其特征在于，包括以下步骤：

1)、将掩膜版箱子放入清洗槽(2)内，用泵抽取碱液到清洗槽(2)，使碱液没过箱子，浸泡5分钟后将碱液排掉；

2)、用水枪对箱子的各个部位进行冲洗，3分钟；

3)、用泵抽取表面活性剂液到清洗槽(2)内，使活性剂液没过箱子，浸泡5分钟后将液体排掉；

4)、用水枪对箱子的各个部位进行冲洗，5分钟；

5)、将箱子取出放入烘干箱中进行烘干，2个小时后烘干完成，箱子取出备用。