[发明专利]产生双图案光罩的处理方法以及其记录媒体

说明书

本发明提供一种产生双图案光罩的处理方法。处理方法包括取得接触窗分布图案，该接触窗分布图案包含多个接触窗。对该多个接触窗依照接触窗种类分类成阵列型、成对型、或是独立型的多个接触窗区块。拆解该多个接触窗成为第一图案群与第二图案群，其之间是交叉配置。第一图案群与该第二图案群的接触窗数量在误差范围内是一致。检查该第一图案群与该第二图案群是否有相邻二接触窗之间的距离小于最小距离，如果有改变该相邻二接触窗其一的当前图案群。输出该第一图案群或该第二图案群，以进行制造对应的第一光罩与第二光罩。

技术领域

本发明涉及一种半导体制造技术，尤其涉及一种产生双图案光罩的处理方法。

背景技术

由于所要形成的光阻图案是利用光罩对光阻层通过光源照射，以将光罩的图案转换到光阻层上，其中无可避免在光阻层的图案，相对于光源的波长，例如黄光，其会有光学绕射效应而产生图案放大与变形。

为了避免光罩上的接触窗过于接近，导致光学绕射效应造成元件结构的不当连接，其可以将原本单个光罩，分为两个光罩来完成，如此可降低光罩的接触窗密度，减少光学绕射效应。然而，如何适当将单个光罩的接触窗图案，拆解(decomposition)为两个光罩是需要实际研发。

发明内容

本发明提供一种产生双图案光罩的处理方法的技术，可以适当将一个光罩的多个接触窗，系统性地拆解成两个光罩，其两个光罩的接触窗数量接近，且接触窗密度可以仍为均匀的分布。

在一实施例中，本发明提供一种产生双图案光罩的处理方法，由处理装置执行。处理方法包括进行接触窗相位拆解，其中针对属于该阵列型、该成对型及该独立型分别的该多个接触窗，以最佳化参数分别拆解成为第一图案群与第二图案群。进入循环处理步骤，该循环处理步骤包括依照接触窗相位规则检查，对该第一图案群与该第二图案群检查是否有产生冲突处。如果有产生该冲突处改变进行该第一图案群与该第二图案群的互换微调。对该第一图案群与该第二图案群进行统计分析，检视该第一图案群与该第二图案群在允许的误差范围内是否一致，当一致时输出该第一图案群与该第二图案群。当该第一图案群与该第二图案群不一致时，进行接触窗相位切换修正，回到该循环处理步骤继续循环处理。如果循环次数超过一数量，则停止循环且发出失败通知。

在一实施例中，对于所述产生双图案光罩的处理方法，取得接触窗分布图案的该步骤包括取得元件接触窗图案，该元件接触窗图案包含预计形成的多个元件接触窗。另外，依照微影制程的尺寸修正资料，修正该多个接触窗的尺寸，得到该多个接触窗，构成该接触窗分布图案。

在一实施例中，对于所述产生双图案光罩的处理方法，分类该多种接触窗群包括使用布局设计准则，依照该多个接触窗尺寸将该多个接触窗分类为N种尺寸接触窗，N为整数。将该N种尺寸接触窗，再依照接触窗的第一延伸方向与第二延伸方向，将该N种尺寸接触窗在分类成2N种尺寸接触窗，其中该第一延伸方向垂直于该第二延伸方向。

在一实施例中，对于所述产生双图案光罩的处理方法，其还包括计算属于该2N种尺寸接触窗的每一种的接触窗数量。

在一实施例中，对于所述产生双图案光罩的处理方法，对该第一图案群与该第二图案群进行统计分析的该步骤包括计算接触窗相位拆解后的该第一图案群与该第二图案群分别的总接触窗数量。依照统计的标准偏差值，对该多个接触窗尺寸分别统计，得到该第一图案群与该第二图案群之间的比例。决定拆解成该第一图案群与该第二图案群后的整体的拆解效率，当该拆解效率在接近50-50％的合理范围内且该标准偏差值(3sigma)小于设定值时，输出该第一图案群与该第二图案群。

在一实施例中，对于所述产生双图案光罩的处理方法，其还包括提供输出的该第一图案群与该第二图案群当作第一罩幕图案及第二罩幕图案。

在一实施例中，对于所述产生双图案光罩的处理方法，进行接触窗相位拆解的该步骤，先进行该阵列型与该成对型的接触窗的拆解，其后才进行该独立型的接触窗的拆解。