[发明专利]产生双图案光罩的处理方法以及其记录媒体有效
申请号: | 201811590601.7 | 申请日: | 2018-12-20 |
公开(公告)号: | CN111352297B | 公开(公告)日: | 2023-02-28 |
发明(设计)人: | 黄建清;曾士珉 | 申请(专利权)人: | 华邦电子股份有限公司 |
主分类号: | G03F1/70 | 分类号: | G03F1/70 |
代理公司: | 北京同立钧成知识产权代理有限公司 11205 | 代理人: | 吴志红;臧建明 |
地址: | 中国台湾台*** | 国省代码: | 台湾;71 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 产生 图案 处理 方法 及其 记录 媒体 | ||
1.一种产生双图案光罩的处理方法,由处理装置执行,包括:
取得接触窗分布图案,所述接触窗分布图案包含多个接触窗;
将所述多个接触窗依照多个接触窗尺寸分类成多种接触窗群;
对所述多种接触窗群分别的每一种的所述多个接触窗,识别出阵列型、成对型、或是独立型的多个接触窗区块;
进行接触窗相位拆解,其中针对属于所述阵列型、所述成对型及所述独立型分别的所述多个接触窗,以最佳化参数分别拆解成为第一图案群与第二图案群;
进入循环处理步骤,所述循环处理步骤包括:
依照接触窗相位规则检查,对所述第一图案群与所述第二图案群检查是否有产生冲突处;
如果有产生所述冲突处,改变进行所述第一图案群与所述第二图案群的互换微调;
对所述第一图案群与所述第二图案群进行统计分析,检查所述第一图案群与所述第二图案群在允许的误差范围内是否一致,当一致时输出所述第一图案群与所述第二图案群;以及
当所述第一图案群与所述第二图案群不一致时,进行接触窗相位切换修正,且回到所述循环处理步骤继续循环处理,
其中如果循环次数超过一数量,则停止循环且发出失败通知。
2.根据权利要求1所述的产生双图案光罩的处理方法,其中对所述第一图案群与所述第二图案群进行统计分析的所述步骤包括:
计算接触窗相位拆解后的所述第一图案群与所述第二图案群分别的总接触窗数量;
依照统计的标准偏差值,对所述多个接触窗尺寸分别统计,得到所述第一图案群与所述第二图案群之间的比例;以及
决定拆解成所述第一图案群与所述第二图案群后的整体的拆解效率,当所述拆解效率在50-50%的合理范围内且所述标准偏差值(3sigma)小于设定值时,输出所述第一图案群与所述第二图案群。
3.根据权利要求1所述的产生双图案光罩的处理方法,
其中所述阵列型是相邻设定距离内三个或更多个尺寸相同接触窗,以一维或是二维规则分布,
其中所述成对型是相邻设定距离内二个尺寸相同接触窗,以接触窗边界互为平行且有重叠的分布;以及
其中所述独立型是不属于所述阵列型或所述成对型的接触窗。
4.根据权利要求1所述的产生双图案光罩的处理方法,其中所述成对型的所述多个接触窗区块是所述第一图案群与所述第二图案群交换拆解。
5.根据权利要求1所述的产生双图案光罩的处理方法,其中所述成对型的所述多个接触窗区块是第一图案群与所述第二图案群以弯折交叉拆解。
6.根据权利要求1所述的产生双图案光罩的处理方法,其中所述独立型所述多个接触窗区块是独立接触窗。
7.一种产生双图案光罩的处理方法,包括:
取得接触窗分布图案,所述接触窗分布图案包含多个接触窗,所述多个接触窗的尺寸以包含微影因素的修正;
将所述多个接触窗依照多个接触窗尺寸以及延伸方向分类成多种接触窗群;
对所述多种接触窗群分别的每一种的所述多个接触窗,识别出阵列型、成对型、或是独立型的多个接触窗区块;
拆解所述多个接触窗,成为第一图案群与第二图案群,其中所述第一图案群与所述第二图案群之间是交叉配置,其中所述第一图案群的第一接触窗数量与所述第二图案群的第二接触窗数量在误差范围内是一致;以及
分别检查所述第一图案群与所述第二图案群是否有相邻二接触窗之间的距离小于最小距离;
在维持符合拆解所述多个接触窗的条件下,如所述相邻二接触窗之间的距离小于所述最小距离,改变所述相邻二接触窗其一的所述第一图案群或所述第二图案群的指定;以及
输出所述第一图案群或所述第二图案群,以进行制造对应的第一光罩与第二光罩。
8.根据权利要求7所述的产生双图案光罩的处理方法,其中所述成对型的所述多个接触窗区块是所述第一图案群与所述第二图案群交换拆解。
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