[发明专利]一种环境敏感染料及其制备方法和应用

权利要求书

1.一种环境敏感染料，其特征在于，所述环境敏感染料的结构式如式I所示：

其中，所述A₁和A₂为芳香环或者取代芳香环，所述芳香环为硒吩、苯、噻吩、呋喃、并噻吩、苯并噻吩、苯并二噻吩、萘或蒽；R₁、R₂、R₃和R₄选自以下基团：烷基、取代苯环或取代噻吩环。

2.根据权利要求1所述的环境敏感染料，其特征在于，所述取代芳香环上的取代基为-F、-Cl、-Br、-I、-R、-OR、-SR、-NH₂、-NHR或-NRR′中的至少一种，其中，R和R′选自碳原子数目为1～20的烷基直链或者烷基支链。

3.权利要求1或2所述的环境敏感染料的制备方法，其特征在于，所述 制备方法为：将式II所示的化合物溶于有机溶剂中，加入溴代丁二酰亚胺或溴素常温下反应得到溴化产物；溴化产物不需提纯，直接溶于有机溶剂中；然后加入氧化剂进行氧化反应得到式I所示的环境敏感染料；

4.根据权利要求3所述的环境敏感染料的制备方法，其特征在于，式II所示的化合物选自下述化合物中的一种：

5.根据权利要求3或4所述的环境敏感染料的制备方法，其特征在于，所述氧化剂为过氧化氢、间氯过氧苯甲酸、过氧硫酸氢钾复合盐或者氧气。

6.根据权利要求3或4所述的环境敏感染料的制备方法，其特征在于，所述有机溶剂为氯仿、二氯甲烷、丙酮或四氢呋喃中的至少一种。

7.根据权利要求3或4所述的环境敏感染料的制备方法，其特征在于，所述制备方法包括如下步骤：

(1)将式II所示的化合物和溴代丁二酰亚胺或溴素溶于有机溶剂中，避光反应1～5h，反应结束后，加水淬灭反应；产物经萃取、洗涤，有机相干燥得到粗产物，直接进行下一步；

(2)步骤(1)所得粗产物直接溶于有机溶剂中，再加入氧化剂常温反应0.5～4h，反应结束后，加水淬灭反应；经萃取、洗涤，有机相干燥后使用层析柱纯化得到的固体为所述环境敏感染料。

8.根据权利要求5所述的环境敏感染料的制备方法，其特征在于，所述制备方法包括如下步骤：

(1)将式II所示的化合物和溴代丁二酰亚胺或溴素溶于有机溶剂中，避光反应1～5h，反应结束后，加水淬灭反应；产物经萃取、洗涤，有机相干燥得到粗产物，直接进行下一步；

(2)步骤(1)所得粗产物直接溶于有机溶剂中，再加入氧化剂常温反应0.5～4h，反应结束后，加水淬灭反应；经萃取、洗涤，有机相干燥后使用层析柱纯化得到的固体为所述环境敏感染料。

9.根据权利要求6所述的环境敏感染料的制备方法，其特征在于，所述制备方法包括如下步骤：

(1)将式II所示的化合物和溴代丁二酰亚胺或溴素溶于有机溶剂中，避光反应1～5h，反应结束后，加水淬灭反应；产物经萃取、洗涤，有机相干燥得到粗产物，直接进行下一步；

(2)步骤(1)所得粗产物直接溶于有机溶剂中，再加入氧化剂常温反应0.5～4h，反应结束后，加水淬灭反应；经萃取、洗涤，有机相干燥后使用层析柱纯化得到的固体为所述环境敏感染料。

10.环境敏感染料用于聚合物相分离可视化探测领域或用作pH响应的智能材料， 其中，所述环境敏感染料为权利要求1或2所述的环境敏感染料；或为采用权利要求3～9任一项所述的制备方法得到的染料。