[发明专利]基于杂化型等离子共振增强的红外探测器有效
申请号: | 201811581248.6 | 申请日: | 2018-12-24 |
公开(公告)号: | CN109659387B | 公开(公告)日: | 2022-04-01 |
发明(设计)人: | 吴绍龙;丁浩;徐玉亭;眭博闻;张程;秦琳玲;李孝峰 | 申请(专利权)人: | 苏州大学 |
主分类号: | H01L31/108 | 分类号: | H01L31/108;H01L31/18 |
代理公司: | 苏州智品专利代理事务所(普通合伙) 32345 | 代理人: | 王利斌 |
地址: | 215137 *** | 国省代码: | 江苏;32 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 基于 杂化型 等离子 共振 增强 红外探测器 | ||
1.基于杂化型等离子共振增强的红外探测器,其特征在于:所述的红外探测器为复合层式结构,由下而上依次为基底、底金属膜层、中间半导体层、顶层金属微纳米孔阵列层;其中底金属膜层和顶层金属微纳米孔阵列层通过导线连接,底金属膜层和中间半导体层上分别引出电极导线;
所述的底金属膜层、中间半导体层、顶层金属微纳米孔阵列层之间均以肖特基方式接触;
顶层金属微纳米孔阵列层用于激发局域等离子共振;
入射光穿过顶层金属微纳米孔阵列层的微纳米孔到达底金属膜层,在底金属膜层表面激发表面等离激元,顶层金属微纳米孔阵列层的局域等离子共振与底金属膜层产生的表面等离激元发生耦合而形成杂化型等离子共振,在此共振波长处产生光吸收。
2.根据权利要求1所述的基于杂化型等离子共振增强的红外探测器,其特征在于:所述顶层金属微纳米孔阵列层的厚度为20~40 nm,微纳米孔阵列为六方排布,相邻两孔的中心距离为500~4000 nm,孔径为相邻两孔中心距离的30%~90%。
3.根据权利要求2所述的基于杂化型等离子共振增强的红外探测器,其特征在于:所述中间半导体层的厚度为30~80 nm,底金属膜层的厚度为50~200 nm。
4.根据权利要求3所述的基于杂化型等离子共振增强的红外探测器,其特征在于:所述中间半导体层的材质选自:氧化钛TiO2、氧化锌 ZnO、氧化钨WO3、氧化锡SnO2、氧化铟 In2O3、五氧化二钽Ta2O5中的一种。
5.一种基于杂化型等离子共振增强的红外探测器的制备方法,其特征在于包括以下步骤:
a.在基底上蒸镀一层底金属膜层;
b.在上述金属薄膜表面沉积一层厚度均匀的中间半导体层;
c.将步骤b中得到的基底放入装满去离子水的容器中,在水面排满单层微纳米球;
d.将容器中的水缓慢排干,从而将水表面的单层微纳米球转移至中间半导体层表面;
e.将步骤d中得到的基底放入离子刻蚀系统中刻蚀,将微纳米球直径减小;
f.在单层微纳米球表面通过电子束蒸镀一层金属膜;
g.去除微纳米球,得到顶层金属微纳米孔阵列层/中间半导体层/底金属膜层结构;
h.在顶层金属微纳米孔阵列层、底金属膜层上引出电极导线并短接作为器件的一个端口,在中间半导体层引出电极导线作为器件的另一个端口;
所述的底金属膜层、中间半导体层、顶层金属微纳米孔阵列层之间以肖特基方式接触;顶层金属微纳米孔阵列层用于激发局域等离子共振;入射光穿过顶层金属微纳米孔阵列层的微纳米孔到达底金属膜层,在底金属膜层表面激发表面等离激元,顶层金属微纳米孔阵列层的局域等离子共振与底金属膜层产生的表面等离激元发生耦合而形成杂化型等离子共振,在此共振波长处产生光吸收。
6.根据权利要求5所述的基于杂化型等离子共振增强的红外探测器的制备方法,其特征在于: 所述的微纳米球为聚苯乙烯微纳米球。
7.根据权利要求6所述的基于杂化型等离子共振增强的红外探测器的制备方法,其特征在于: 底金属膜层和步骤f中的金属膜材质为金。
8.根据权利要求5~7之一所述的基于杂化型等离子共振增强的红外探测器的制备方法,其特征在于:步骤b中半导体层的生长方式为原子层沉积。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于苏州大学,未经苏州大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201811581248.6/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 同类专利
- 专利分类
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的