[发明专利]掩膜板制作方法有效

专利信息
申请号: 201811493862.7 申请日: 2018-12-07
公开(公告)号: CN109557761B 公开(公告)日: 2022-03-08
发明(设计)人: 陈平 申请(专利权)人: 深圳市华星光电半导体显示技术有限公司
主分类号: G03F1/38 分类号: G03F1/38
代理公司: 深圳翼盛智成知识产权事务所(普通合伙) 44300 代理人: 黄威
地址: 518132 广东省深*** 国省代码: 广东;44
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摘要:
搜索关键词: 掩膜板 制作方法
【说明书】:

本申请提供一种掩膜板制作方法,所述方法包括:在衬底基板上形成一金属层,在所述金属层上确定出多个坐标点,根据所述多个坐标点在所述金属层上确定出第一区域和第二区域,所述第二区域围绕所述第一区域,在所述第一区域形成保护层,对所述金属层进行第一刻蚀处理,以去除所述金属层位于所述第二区域的部分并保留所述第一金属层位于所述第一区域的部分,去除所述金属层上的所述保护层。所述方法通过根据多个坐标点在金属层上绘制形成保护层的第一区域,以制作出一个较为精确的掩膜板。

技术领域

本申请涉及显示技术领域,具体涉及一种掩膜板制作方法。

背景技术

目前,掩膜板用于遮挡显示面板的部分区域,以使该部分区域不受到光线照射的影响。即对不需要光线的区域进行遮挡。

就目前来说,掩膜板的开发成本较高,而且制作时间较长。针对应急产品,可能会出现没有对应的掩膜板去遮挡显示面板的部分区域。如果掩膜板的制作过程中遮挡部分出现偏差,容易导致其他产品不能进行使用。并且因为掩膜板制作时间较长,所以无法在短时间内完成应急产品对应的掩膜板。

发明内容

本申请实施例提供一种掩膜板制作方法,从而制作较为精确的掩膜板。

本申请实施例提供了一种掩膜板制作方法,包括:

在衬底基板上形成一金属层;

在所述金属层上确定出多个坐标点;

根据所述多个坐标点在所述金属层上确定出第一区域和第二区域,所述第二区域围绕所述第一区域;

在所述第一区域形成保护层;

对所述金属层进行第一刻蚀处理,以去除所述金属层位于所述第二区域的部分并保留所述第一金属层位于所述第一区域的部分;

去除所述金属层上的所述保护层。

在本申请所述的掩膜板制作方法中,所述在所述衬底基板上形成一金属层的步骤之后,还包括:

对所述金属层进行曝光处理,以在所述金属层上确定第三区域、第四区域以及至少两个定位区域,其中所述至少两个定位区域间隔设置在所述第三区域外围,所述第四区域围绕所述第三区域和所述至少两个定位区域;

对所述金属层进行第二刻蚀处理,以去除所述金属层位于所述第四区域的部分并保留所述金属层位于所述第三区域的部分和位于所述至少两个定位区域的部分,以形成一子金属层;

所述在所述金属层上确定出多个坐标点的步骤包括:

在所述子金属层上确定出多个坐标点。

在本申请所述的掩膜板制作方法中,所述根据所述多个坐标点在所述金属层上确定出第一区域和第二区域的步骤包括:

将所述多个坐标点作为边界点所包围的区域确定为所述第一区域;

将所述金属层上位于所述第一区域之外的部分确定为所述第二区域。

在本申请所述的掩膜板制作方法中,所述根据所述多个坐标点在所述金属层上确定出第一区域和第二区域的步骤包括:

将所述多个坐标点作为边界点形成的区域确定为第五区域,其中所述第五区域包括至少三条边界;

在所述第五区域内形成一内切区域,所述内切区域的边界与所述第五区域的至少一条边界相切;

将所述内切区域确定为所述第一区域;

将所述金属层上位于所述第一区域之外的部分确定为所述第二区域。

在本申请所述的掩膜板制作方法中,所述根据所述多个坐标点在所述金属层上确定为第一区域和第二区域的步骤包括:

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