[发明专利]一种石墨烯/AlGaAs/GaAs/GaInAs多异质结太阳能电池及其制备方法有效

专利信息
申请号: 201811454930.9 申请日: 2018-11-30
公开(公告)号: CN109728119B 公开(公告)日: 2020-05-12
发明(设计)人: 林时胜;姚天易 申请(专利权)人: 浙江大学
主分类号: H01L31/072 分类号: H01L31/072;H01L31/0725;H01L31/18
代理公司: 杭州求是专利事务所有限公司 33200 代理人: 万尾甜;韩介梅
地址: 310058 浙江*** 国省代码: 浙江;33
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摘要:
搜索关键词: 一种 石墨 algaas gaas gainas 多异质结 太阳能电池 及其 制备 方法
【权利要求书】:

1.一种石墨烯/AlxGa1-xAs/GaAs/GayIn1-yAs多异质结太阳能电池,其特征在于,自下而上依次有背面电极(1)、PET衬底(2)、石墨烯/GayIn1-yAs层(3)、石墨烯/GaAs层(4)、石墨烯/AlxGa1-xAs层(5)和正面电极(6);

所述的石墨烯/GayIn1-yAs层(3)和石墨烯/GaAs层(4)之间、以及石墨烯/GaAs层(4)和石墨烯/AlxGa1-xAs层(5)之间分别存在隧穿结,所述的隧穿结为重掺杂的AlGaAs、GaInP、GaAs、InGaAs材料;

所述的AlxGa1-xAs中,x大于0且x小于1;所述的GayIn1-yAs中,y大于0且y小于1。

2.根据权利要求1所述的石墨烯/AlxGa1-xAs/GaAs/GayIn1-yAs多异质结太阳能电池,其特征在于,所述的石墨烯/GayIn1-yAs层(3)、石墨烯/GaAs层(4)、石墨烯/AlxGa1-xAs层(5)中的半导体是利用金属有机物化学气相沉积法(MOCVD)技术制备,生长源主要选自三甲基镓(TMGa)、三甲基铟(TMIn)、三甲基铝(TMAl)、砷烷和磷烷,生长温度范围为600~700℃。

3.根据权利要求1所述的石墨烯/ AlxGa1-xAs/GaAs/GayIn1-yAs多异质结太阳能电池,其特征在于,所述的石墨烯/GayIn1-yAs层(3)、石墨烯/GaAs层(4)、石墨烯/AlxGa1-xAs层(5)中石墨烯的厚度为0.4纳米至10纳米。

4.根据权利要求1所述的石墨烯/AlxGa1-xAs/GaAs/GayIn1-yAs多异质结太阳能电池,其特征在于,所述的背面电极是金、钯、银、钛、铬、镍、ITO、FTO、AZO的一种或者几种的复合电极。

5.根据权利要求1所述的石墨烯/AlxGa1-xAs/GaAs/GayIn1-yAs多异质结太阳能电池,其特征在于,所述的正面电极是金、钯、银、钛、铜、铂、铬、镍、ITO、FTO、AZO的一种或者几种的复合电极。

6.制造如权利要求1-5任一项所述的石墨烯/AlxGa1-xAs/GaAs/GayIn1-yAs多异质结太阳能电池的方法,其特征在于,该方法包括如下步骤:

1)在PET衬底的一面制作背面电极;

2)利用金属有机物化学气相沉积法(MOCVD)技术分别制备AlxGa1-xAs、GayIn1-yAs、GaAs,生长源选自三甲基镓(TMGa)、三甲基铟(TMIn)、三甲基铝(TMAl)、砷烷和磷烷,生长温度范围为600~700℃;

3)在步骤2)所得的AlxGa1-xAs、GayIn1-yAs、GaAs三种半导体上分别转移石墨烯,使得石墨烯覆盖在半导体上形成异质结,获得石墨烯/GayIn1-yAs、石墨烯/GaAs层、石墨烯/AlxGa1-xAs层;

4)通过柔性高分子材料作为支撑层将石墨烯/GayIn1-yAs层转移至步骤1)所得的PET衬底另一面上,并制作隧穿结;

5)通过柔性高分子材料作为支撑层将石墨烯/GaAs层转移至步骤4)所得的单结太阳能电池上,使得石墨烯/GaAs覆盖在隧穿结上;

6)通过柔性高分子材料作为支撑层将石墨烯/AlxGa1-xAs层转移至步骤5)所得的双结太阳能电池上,使得石墨烯/AlxGa1-xAs覆盖在隧穿结上;

7)在石墨烯/AlxGa1-xAs上制作正面电极。

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