[发明专利]一种减少氚排放的次级中子源棒在审

专利信息
申请号: 201811444024.0 申请日: 2018-11-29
公开(公告)号: CN109473190A 公开(公告)日: 2019-03-15
发明(设计)人: 党宇;卢俊强;付亚茹;郑轶雄;毛兰方;崔严光;徐时吟;孙靖雅 申请(专利权)人: 上海核工程研究设计院有限公司
主分类号: G21C19/02 分类号: G21C19/02;G21C19/22;G21G4/02
代理公司: 上海精晟知识产权代理有限公司 31253 代理人: 冯子玲
地址: 200233*** 国省代码: 上海;31
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 中子源棒 包壳管 冷却剂 阻氚涂层 可组合 内包壳 排放量 锆合金 排放 镀镍 涂覆
【权利要求书】:

1.一种减少氚排放的次级中子源棒,其特征在于,在所述次级中子源棒的包壳管上涂覆阻氚涂层或在所述次级中子源棒的包壳管内放置镀镍吸氚材料或在所述次级中子源棒内使用锆合金内层包壳管,或上述方案组合使用。

2.如权利要求1所述的减少氚排放的次级中子源棒,其特征在于,所述次级中子源棒为单层包壳次级中子源棒,由所述包壳管包覆次级中子源材料组成,所述包壳管的两端通过第一端塞和第二端塞密封,在所述包壳管上涂覆所述阻氚涂层。

3.如权利要求1所述的减少氚排放的次级中子源棒,其特征在于,所述次级中子源棒为双层包壳次级中子源棒,所述包壳管包括内包壳和外包壳,由所述内包壳包覆次级中子源材料,两端通过第三端塞和第四端塞密封,外部再包覆一层所述外包壳,所述外包壳两端通过第一端塞和第二端塞密封,在所述内包壳上涂覆所述阻氚涂层。

4.如权利要求3和4所述的减少氚排放的次级中子源棒,其特征在于,所述阻氚涂层材料为Cr2O3、Al2O3、ZrO2、SiC或其他具有阻氚性能的材料。

5.如权利要求1所述的减少氚排放的次级中子源棒,其特征在于,所述次级中子源棒为双层包壳次级中子源棒,所述包壳管包括内包壳和外包壳,由所述内包壳包覆次级中子源材料,两端通过第三端塞和第四端塞密封,外部再包覆一层所述外包壳,所述外包壳两端通过第一端塞和第二端塞密封,所述内包壳材料为锆合金,所述外包壳材料为不锈钢。

6.如权利要求1所述的减少氚排放的次级中子源棒,其特征在于,所述次级中子源棒为单层包壳次级中子源棒,由所述包壳管包覆次级中子源材料组成,所述包壳管的两端通过第一端塞和第二端塞密封,在所述包壳管内放置所述镀镍吸氚材料,所述镀镍吸氚材料可放置在所述次级中子源材料的上方或下方。

7.如权利要求1所述的减少氚排放的次级中子源棒,其特征在于,所述次级中子源棒为双层包壳次级中子源棒,所述包壳管包括内包壳和外包壳,由所述内包壳包覆次级中子源材料,两端通过第三端塞和第四端塞密封,外部再包覆一层所述外包壳,所述外包壳两端通过第一端塞和第二端塞密封,在所述外包壳或内包壳管内放置所述镀镍吸氚材料。

8.如权利要求7所述的减少氚排放的次级中子源棒,其特征在于,所述镀镍吸氚材料可设置于所述外包壳与所述内包壳之间,位于所述内包壳上方或下方。

9.如权利要求7所述的减少氚排放的次级中子源棒,其特征在于,所述镀镍吸氚材料可设置于所述内包壳内,位于所述次级中子源材料上方或下方。

10.如权利要求7所述的减少氚排放的次级中子源棒,其特征在于,所述镀镍吸氚材料的基体为锆合金,表面镀镍,镀镍层厚度为5~20μm。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于上海核工程研究设计院有限公司,未经上海核工程研究设计院有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201811444024.0/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top